あらい３ちょうめの英語

戸枠２の屋外側（外枠部２ａ）に粗い網目をなす粗網体３を張設し、且つ粗網体３より所定の間隔を置いて、戸枠２の屋内側（内枠部２ｂ）に細かい網目をなす細網体４を張設する。例文帳に追加

On the outdoor side (outer frame part 2a) of a door frame 2, the coarse net body 3 having coarse meshes is arranged, and at a fixed interval from the coarse net body 3, the fine net body 4 having fine meshes is arranged on the indoor side (inner frame part 2b). - 特許庁

承久3年（1221年）の承久の乱においては京方の軍勢を率いて、兄弟の尊長とともに芋洗方面の守備に就く。例文帳に追加

In 1221 when the Jokyu War broke out, he was in command of the troops to support the Imperial court in Kyoto, and was deployed in the Imoarai area for defense with his brother Soncho.発音を聞く  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

洗い場床面１２に、車椅子Ｋの駐車位置を指示する第１の標示３、４、５、６を設けてなることを特徴とする衛生設備室１。例文帳に追加

The sanitary installation room is constituted by having first markings 3, 4, 5 and 6 for indicating parking positions of the wheel chair K on a washing place floor 12. - 特許庁

蛍光体層２４において、１７はセル壁、２０は波長変換部としての蛍光体、１８は接着層、１６はセルの基体、２３はセルの開口部、３はアライメントマーク、１９はアライメント用の開口部である。例文帳に追加

The phosphor layer 24 has cell walls 17, phosphor 20 as a wave length converting part, adhesive agent layer 18, a cell base 16, cell openings 23, alignment marks 3, and openings 19 for alignment. - 特許庁

第３の半導体層３は、第４の半導体層４の底面と隣接し、第２の半導体層２とは離間し、キャリアライフタイムが短くなるように処理されたキャリアライフタイム低減領域を有することを特徴とする。例文帳に追加

The third semiconductor layer 3 has a carrier-lifetime reducing region that is adjacent to the bottom surface of the fourth semiconductor layer 4, is spaced apart from the second semiconductor layer 2, and is processed so that the carrier lifetime becomes shorter. - 特許庁

移動ステージ５によって、アライメントマーク３が形成された基板２を、搬入位置から処理位置へ向かって移動させるとともに、各粗調用撮像部６によって、基板２のアライメントマーク３を含む第１領域を、第１倍率で撮像する。例文帳に追加

A substrate 2 onto which an alignment mark 3 is put is moved from a carry-in position toward a processing position by a moving stage 5, and a first region of the substrate 2 including the alignment mark 3 is imaged at a first magnification by each imaging section 6 for rough adjustment. - 特許庁

主処理回路３では比較的粗い非線形処理（メイン補正）を行い、副処理回路４では主処理回路３で処理された非線形処理信号の微調整（サブ補正）を行う。例文帳に追加

The main processor circuit 3 performs a comparatively rough nonlinear process (main correction), and the sub-processor circuit 4 performs a fine adjustment (sub-correction) of the nonlinear signals processed by the main circuit 3. - 特許庁

経方向の伸長率が３％以上、緯方向の伸長率が５％以上であり、伸長回復率が９０％以上であり、目付けが２３０ｇ／ｍ^２以下であり、湿熱滅菌洗濯１００洗後における経緯方向の収縮率が共に２０％以下である。例文帳に追加

The laminated knitted fabric has an elongation in the warp direction of ≥3%, an elongation in the weft direction of ≥5%, an elongation recovery of ≥90%, a weight of ≤230 g/m^2, and shrinkages in warp and weft directions after 100 times wet heat sterilization washings of ≤20%. - 特許庁