こうぬちょうひちの英語

加工布に対する通常の刺繍縫製動作に加えて、被加工物の表面に対する打刻彫刻動作を行うことを可能とし、不適切な動作を行ってしまう不具合を効果的に防止する。例文帳に追加

To provide a multi-needle embroidery sewing machine that allows execution of a punch engraving operation on the surface of a workpiece in addition to execution of a normal embroidery sewing operation on a workpiece cloth while effectively preventing behaviors that are inappropriate for the operation. - 特許庁

特徴的形状１６は、表面１２が油に関して公称接触角よりも大きい有効接触角を生じるのに十分な有効濡れ性を有するように選択されたサイズ、形状及び配置を有する。例文帳に追加

The features 16 have a size, shape, and orientation selected such that the surface 12 has an effective wettability sufficient to generate, with reference to an oil, an effective contact angle greater than the nominal contact angle. - 特許庁

平均繊維径５μｍ以下の極細繊維が絡合してなる不織布の少なくとも一面に、該極細繊維の立毛を有することを特徴とする、テクスチャ加工を施した磁気記録媒体用基板表面を洗浄するための洗浄加工布。例文帳に追加

The fabric for cleaning the surface of the magnetic recording medium substrate has raised microfibers at least on one side of a nonwoven fabric composed of entangled microfibers with an average fiber diameter of ≤5 μm. - 特許庁

コート材として使用した際に高濡れ性、即ち高表面自由エネルギーを長期間維持したまま、その溶出量を低減させ得るアミド系ブロック共重合体を提供する。例文帳に追加

To provide an amide block copolymer which, when used as a coating material, reduces the amount of elution while retaining its high wettability and high surface free energy for a long time. - 特許庁

Ｔ型弾性体７ａを進行方向、前後１７にスライドする事により、被加工布の厚みによる縫いズレをストッパー金具６の適切な位置で止め強弱の抵抗が掛けられ、調整が出来る。例文帳に追加

The T-shaped elastic body 7a is slid in a back-and-forth direction 17 in a traveling direction so that the degree of the applied resistance can be adjusted by fixing the stopper metal fitting 6 at an appropriate position to prevent sewing slippage caused by the thickness of the cloth to be processed. - 特許庁

光源の発光主波長および発光強度が周囲温度や駆動条件により変化し、結果として生じる白の色度点のずれを自動的に補正し安定した映像表示装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a stable image display device, by automatically correcting drift of white chromaticity points resulting from change of main light-emitting wavelengths and emission intensity of a light source due to ambient temperature and driving conditions. - 特許庁

長日植物の栽培方法は、太陽光が照射されない時間帯で、かつ、周囲温度が５〜４０℃において、発光主波長が７００〜８００ｎｍにあり、かつ、上記主波長域の光量子束密度が０．０４μｍｏｌ・ｍ^−２・ｓ^−１以上になるように遠赤色光を連続して前記長日植物に対して照射する工程を具備している。例文帳に追加

This culture method for long-day plant is provided with a step where far infrared light of which main emission wavelength is in the range from 700 to 800 nm, with a photon flux density of ≥ 0.04 μmol m^-2 s^-1 is continuously irradiated to long-day plants at an ambient temperature while the time when sunshine is not radiated. - 特許庁

植物に対し、太陽光が照射されない時間帯において、発光主波長が４００〜５００ｎｍにあり、かつ上記波長域の栽培ベッド面上の放射照度が２．５W／ｍ^２以下の光を照射する植物栽培方法である。例文帳に追加

The method for culturing the plant is characterized by irradiating the plant with light having light main wavelengths of 400 to 500 nm at an irradiation illuminance of ≤2.5 W/m^2 on the surface of a culture bed in a time zone not irradiated with solar light. - 特許庁