そまとれむの英語

底版１０に一対の支柱２０、２０を着脱可能に立設し、各支柱２０の上端部と底版１０とをバットレスフレーム３０で着脱可能に接続して基礎マウンドＤに据え付ける。例文帳に追加

A pair of columns 20, 20 are detachably erected on a bottom plate 10, and upper end parts of the respective columns 20 and the bottom plate 10 are detachably connected by a buttress frame 30 to be installed on a footing mound D. - 特許庁

本発明は、層間絶縁膜、ＢＰＳＧ膜、シャロー・トレンチ分離用絶縁膜を平坦化するＣＭＰ技術において、酸化珪素膜と窒化珪素膜の選択比、平坦性を向上させることにより、ＣＭＰプロセスを効率的、高速に、かつプロセス管理も容易に行うことができる研磨剤及び研磨法を提供するものである。例文帳に追加

To provide abrasives and a polishing method in which in a CMP technology of flattening an interlayer dielectric, a BPSG film, and a shallow trench isolating insulating film, a selection ratio of a silicon oxide film to a silicon nitride film and a flatness are enhanced, whereby a CMP process can be efficiently and fast performed, and a process management can be easily performed. - 特許庁

ストレプトミセス（Streptomyces）属の微生物が生産するトランスグルタミナーゼの粗酵素又は粗酵素を部分精製したものに塩化ナトリウム及び／又は塩化カリウムを添加して塩析を行うことを特徴とするトランスグルタミナーゼの工業的結晶化方法。例文帳に追加

The method for the industrial crystallization of transglutaminase comprises the addition of sodium chloride and/or potassium chloride to crude transglutaminase produced by microorganisms of the genus Streptomyces or to a partially purified enzyme to perform the salting-out of the enzyme. - 特許庁

層間絶縁膜、ＢＰＳＧ膜、シャロートレンチ分離用絶縁膜を平坦化するＣＭＰ技術において、酸化珪素膜等の研磨後の膜厚均一性向上を容易に行うことができる、研磨剤組成物及びこの研磨剤組成物を用いた基板の研磨方法を提供する。例文帳に追加

To provide an abrasive composition easily improving film thickness uniformity of, for example, silicon oxide after polishing according to CMP technique which planarizes an interlayer dielectric insulating film, a BPSG film, an insulating film for shallow trench separation; and to provide a method for polishing a substrate using the same. - 特許庁

一般式ＨＯ−（Ｃ_n Ｈ_2nＯ）_m −Ｒ（Ｒは水素又は炭素数１〜４のアルキル基、ｎは２〜３の整数、ｍは１〜３の整数）で表わされる極性有機溶剤とヒドロキシルアミンと水とヒドロキシルアミン安定化剤とを主成分としてフォトレジスト剥離剤組成物を構成する。例文帳に追加

The objective photoresist remover composition consists essentially of a polar organic solvent of the formula HO-(CnH2nO)m-R (where R is H or a 1-4C alkyl; (n) is an integer of 2-3; and (m) is an integer of 1-3), hydroxylamine, water and a hydroxylamine stabilizer. - 特許庁

そして、挿通孔２は、円柱体３の一端面に形成した光ファイバ挿入口５から内部に向かって先細まりのテーパー形状をなし、光ファイバを内部に案内する案内部６と、該案内部６と連通し案内された光ファイバの素線を保持する保持部７と、を備えて構成される。例文帳に追加

Further, the through hole 2 is provided with a guide part 6 which has a tapered shape from an optical fiber insert opening 5 formed on one end surface of the circumferential body 3 toward the inside and guides the optical fiber to the inside, and a holding part 7 which communicates with the guide part 6 and holds the guided optical fiber. - 特許庁

層間絶縁膜、ＢＰＳＧ膜、シャロートレンチ分離用絶縁膜を平坦化するＣＭＰ技術において、ドレッシング処理を必要とせずパッドの表面状態を一定に保つことにより、酸化珪素膜の効率的、高速に、かつプロセス管理も容易に行うことができる酸化セリウム研磨剤用ＣＭＰパッド及び基板の研磨方法を提供する。例文帳に追加

To provide a CMP pad for cerium oxide polishing agent and a polishing method of a substrate, which enable a silicon oxide film to be polished effectively and rapidly and realize easy process management, by holding the surface state of a pad fixed without requiring dressing treatment in a CMP technique which flattens a layer insulation film, a BPSG film and a shallow trench isolating insulation film. - 特許庁

劣化電極側のカーボンブラック担体上にＰｔイオンを付着させる第１の工程と、該劣化電極に対する反対電極に水素または水素含有ガスを供給し、前記両電極間に電圧を印加してカーボンブラック担体上に付着したＰｔイオンをＰｔに還元する第２の工程とを含む燃料触媒の修復方法。例文帳に追加

This method of restoring a fuel cell catalyst includes a first step of adhering Pt ions onto a carbon black carrier on the side of degraded electrode, and a second step of providing hydrogen and gas containing hydrogen to an electrode opposite to the degraded electrode and reducing the Pt ions adhered to the carbon black carrier to Pt by applying a voltage between both electrodes. - 特許庁