のなか４ちょうめの英語

広幡長忠（ひろはたなかただ、宝永8年4月4日(旧暦)（1711年5月21日）-明和8年9月27日(旧暦)（1771年11月3日））は、江戸時代中期の公卿。例文帳に追加

Nagatada HIROHATA (May 21, 1711 - November 3, 1771) was a Kugyo (top court official) during the mid Edo period.発音を聞く  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

享禄4年（1531年）3月、高国は三好元長の反撃を受けて摂津国中嶋の戦いで大敗。例文帳に追加

During March of 1531, Takakuni suffered a crushing defeat at the Battle of Nakajima in Settsu Province due to a counterattack made by Motonaga MIYOSHI.発音を聞く  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

(5) ハンガリー特許庁は，(3)の要件が満たされているか否かについて欧州特許の本文の翻訳文を審査する。同庁は，その過程で，第68条(2)から(4)までを準用して手続を進める。ただし，第68条(3)及び(4)にいう場合は，ハンガリー語翻訳文は提出されなかったものとみなす。例文帳に追加

(5) The Hungarian Patent Office shall examine the translation of the text of the European patent whether the requirements of paragraph (3) have been satisfied. In the course of this, it shall proceed by applying Article 68(2) to (4) mutatis mutandis, except that in the cases referred to in Article 68(3) and (4), the Hungarian translation shall be deemed not to have been filed. - 特許庁

中御門為方（なかみかどためまさ、建長7年（1255年）-嘉元4年12月11日(旧暦)（1307年1月15日））は鎌倉時代の公家。例文帳に追加

Tamemasa NAKAMIKADO (1255 - January 15, 1307) was a court noble in the Kamakura period.発音を聞く  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

補正が第17 条の2 第4 項の規定を満たすものであるか否かは、発明の特別な技術的特徴を変更する補正に従って判断する。例文帳に追加

Whether the amendment satisfies Article 17bis (4) or not is determined according to Amendment to change special technical features of the invention.発音を聞く  - 特許庁

表面に形成したバインダーの層４の中に超硬チップの破砕片６を埋め込むことにより耐磨耗性を高めた。例文帳に追加

Abrasion resistance is increased by embedding the crushed pieces 6 of ultrahigh chip in the layer 4 formed on the surface. - 特許庁

しかし、享禄4年（1531年）3月には摂津中嶋の戦いにおいて三好元長に敗れ、6月4日の天王寺の戦い（大物崩れ）でも元長に敗れて捕らえられ、6月8日に自刃に追い込まれた。例文帳に追加

However, he was defeated by Motonaga MIYOSHI at the Battle of Settsu Nakajima in March 1531, and on June 4, he was defeated again and captured by Motonaga at the Battle of Tennno-ji (Battle of Daimotsu), and was forced to kill himself on June 8.発音を聞く  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

予備真空室２１（２２）内にウエハを載置して温度調整するための温調プレート４を設け、この温調プレート４に突没自在な回転ステージ５を設ける。例文帳に追加

In a preliminary vacuum chamber 21 (22), a temperature adjustment plate 4 for adjusting temperature of a wafer mounted on the plate is provided with a rotating stage 5 capable of projecting from and retracting into the temperature adjustment plate 4. - 特許庁