アジド化学の英語

光学活性な環状エポキシエステルの特定な化合物を出発原料とし、シクロヘキセニルアジドおよび環状ジアミド−アルコールを経由するリン酸オセルタミビル（１０）の新規化学合成方法。例文帳に追加

In the new chemical synthetic method of the oseltamivir phosphate (10), the specified compound of an optically active cyclic epoxy ester is utilized as a starting raw material, and reaction via cyclohexenyl azide and cyclic diamide-alcohol follows. - 特許庁

露光により主鎖が分解して現像液に対する溶解性が増大するベース樹脂成分（Ａ）と、ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル化合物（Ｂ）を含有することを特徴とする非化学増幅主鎖分解型ポジ型レジスト組成物。例文帳に追加

The non-chemical amplification main chain degradation positive-type resist composition contains a base resin component (A) of which main chain is degraded by exposure, increasing solubility to a developing solution, and a naphthoquinone diazidesulfonate ester compound (B). - 特許庁

液晶表示装置回路、半導体集積回路などの微細回路の製造に使用されるフォトレジスト組成物に関し、より詳しくはａ）下記の化学式で示されるノボラック樹脂、ｂ）ジアジド系感光性化合物、及びｃ）有機溶媒を含むフォトレジスト組成物に関するものである。例文帳に追加

The photoresist composition used in the manufacture of a minute circuit such as a liquid crystal display circuit or a semiconductor integrated circuit comprises (a) a novolac resin represented by chemical formula (1), (b) a diazide-based photosensitive compound and (c) an organic solvent. - 特許庁

（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）キノンジアジド基含有化合物を、（Ｃ）有機溶剤に溶解してなる非化学増幅型のポジ型ホトレジスト塗布液に、（Ｄ）フッ素−ケイ素系界面活性剤を配合するとともに、これを用いてこの塗布液の塗膜をガラス角基板上に形成させて表示素子用基材とする。例文帳に追加

A non-chemically-amplified positive photoresist coating liquid prepared by dissolving (A) an alkali-soluble resin and (B) a quinonediazido group-containing compound in (C) an organic solvent is blended with (D) a fluorine- and silicon-containing surfactant and a coating film of the resulting coating liquid is formed on a square glass substrate to obtain the objective substrate for a display element. - 特許庁

（Ａ）その中に存在するフェノール性水酸基若しくはカルボキシル基の少なくとも一部の水素原子が酸解離性基で置換されたヒドロキシスチレン系共重合体の少なくとも１種からなる基材樹脂成分、（Ｂ）放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｃ）有機アミンを含む有機溶剤中に（Ｄ）ビスアジド化合物を添加した化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物とする。例文帳に追加

The chemical amplification type positive photoresist composition is obtained by adding (D) a bisazido compound to an organic solvent containing (A) a base resin component comprising at least one hydroxystyrene copolymer having acid dissociable groups substituted for the hydrogen atoms of at least part of phenolic hydroxyl groups or carboxyl groups present in the copolymer, (B) a compound which generates an acid when irradiated with radiation and (C) an organic amine. - 特許庁