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アッベ誤差の英語
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英訳・英語 Abbe error
「アッベ誤差」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 13件
アッベ誤差を適切に補正することができる形状測定装置の提供。例文帳に追加
To provide a shape measurement device capable of appropriately correcting an Abbe error. - 特許庁
従って、第１ヘッドによりウエハステージの少なくともＸ軸方向の位置をアッベ誤差なく計測可能である。例文帳に追加
Accordingly, the first head can measure a position of the wafer stage at least in the X-axis direction without an Abbe error. - 特許庁
ステップ６１３の露光などでは、その残留誤差をウエハステージのピッチング量の計測結果の補正値とし、補正されたピッチング量で、アッベ誤差に起因するレチクルステージＲＳＴの相対位置ずれを補正する。例文帳に追加
In the exposure of the step 613, the residual error is defined as the correcting value of the measurement result of pitching amount of the wafer stage and relative displacement of a reticle stage RST resulting from an Abbe error is corrected. - 特許庁
スライダとキャリッジに相対運動が生じた場合に、その連結部品間に発生する位置変化によるアッベ誤差を排除して、測定誤差の低減を図る。例文帳に追加
To provide a length measuring device which can reduce measurement error by excluding the Abbe error due to a position change generated between coupling components of a slider and a carriage when a relative motion is generated at the slider and the carriage. - 特許庁
複数の基板ステージが複数のステーション間を移動する露光装置において、アッベ誤差や反射鏡の形状誤差等ステージと位置計測器との組合せに依存する誤差を正しく補正して基板ステージの位置ずれを低減する。例文帳に追加
To reduce displacement of a substrate stage by accurately correcting an error depending on a combination of a stage and a position measuring gauge such as Abbe error and shape error of reflecting mirror or the like, in the exposure apparatus where a plurality of substrate stages move among a plurality of stations. - 特許庁
干渉計による計測位置決め誤差と、回折格子を用いる位置検出センサーによるアッベの原理に基づく誤差の両者を排除し、気体ゆらぎの影響低減と計測精度の向上を図るステージ位置計測および位置決め装置である。例文帳に追加
To reduce the effect of gas fluctuation and improve measurement accuracy, by eliminating both of positioning error of measurement with an interferometer and an error due to principles of Abbe by position detection sensor using diffraction grating. - 特許庁
ウェハステージのアッベ誤差量を正確に算出し、電子ビームの照射位置を補正することにより、ウェハにパターンを精度良く露光する電子ビーム露光装置を提供する。例文帳に追加
To provide an electron beam aligner for exposing a pattern onto a wafer with high accuracy by calculating the Abbe error of a wafer stage accurately and correcting the irradiating position of an electron beam. - 特許庁
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「アッベ誤差」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 13件
また、露光位置での位置決めに使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１２と、アライメント位置でのアライメント情報検出に使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１３（１１，１４）をそれぞれ、露光位置とアライメント位置に対してアッベ誤差が略ゼロとなるように配置する。例文帳に追加
Position detecting means 11, 12 of the substrate stage ST used for positioning at an exposure position and position detecting means 11, 13 (11, 14) of the substrate stage ST used for detecting alignment information at an alignment position are disposed so that the Abbe error about the exposure position and alignment position is approximately zero. - 特許庁
また、露光位置での位置決めに使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１２と、アライメント位置でのアライメント情報検出に使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１３（１１，１４）をそれぞれ、露光位置とアライメント位置に対してアッベ誤差が略ゼロとなるように配置する。例文帳に追加
Moreover, means 11 and 12 for detecting the positions of the substrate stage ST used for positioning in exposure position, and means 11 and 13 (11 and 14) for detecting the position of the substrate stage ST used for detection of alignment information in alignment position are arranged severally so that the Abbe error may be zero to the exposure position and the alignment position. - 特許庁
また、露光位置での位置決めに使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１２と、アライメント位置でのアライメント情報検出に使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１３（１１，１４）をそれぞれ、露光位置とアライメント位置に対してアッベ誤差が略ゼロとなるように配置する。例文帳に追加
Also, the position detecting means 11 and 12 of the substrate stage ST used for positioning on the exposure position, and the position detecting means 11, 13 (11, 14) of the substrate stage ST to be used for detection of alignment information on the alignment position are arranged in such a manner that the Abbe error to exposure position and alignment position becomes almost zero. - 特許庁
また、露光位置での位置決めに使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１２と、アライメント位置でのアライメント情報検出に使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１３（１１，１４）をそれぞれ、露光位置とアライメント位置に対してアッベ誤差が略ゼロとなるように配置する。例文帳に追加
In addition, position detecting means 11 and 12 of a stage ST which is used for positioning a substrate to an exposing position and the position detecting means 11 and 13 (11 and 14) of the stage ST used for detecting the alignment information at an alignment position are arranged, so that the Abbe's aberration become nearly zero with respect to the exposing position and alignment position. - 特許庁
また、露光位置での位置決めに使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１２と、アライメント位置でのアライメント情報検出に使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１３（１１，１４）をそれぞれ、露光位置とアライメント位置に対してアッベ誤差が略ゼロとなるように配置する。例文帳に追加
Position detecting means 11 and 12 for the wafer stage ST, which are used for positioning at an exposure position and position detecting means 11 and 13 (11 and 14) for the wafer stage ST, which are used for alignment information detection at an alignment position, are so provided that Abbe error is almost zero relative to the exposure position and alignment position, respectively. - 特許庁
加工用または検出用の集光ビームの位置とレーザ測長器から出射されるレーザ光の位置との相対的な位置関係を高精度に計測できるようにしてアッベ誤差を無くしてビームを被対象物に対して高精度に照射できるようにしたビーム照射装置および電子線露光装置を提供することにある。例文帳に追加
To provide a beam radiation device and electron beam aligner wherein a beam is radiated to an object at high precision by measuring, at high precision, a relative positional relationship between the position of condense beam for work or detection and the position of laser beam emitted from a laser length-measuring device for eliminated Abbe error. - 特許庁
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Abbe error
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