To provide a improved method for N-(1-alkoxyalkyl)amide production generating alkylidenebisamide as a by-product.例文帳に追加

アルキリデンビスアミドを副生するＮ−（１−アルコキシアルキル）アミド生成のための改良された方法を提供する。 - 特許庁

HOMOBIMETAL AND HETEROBIMETAL ALKYLIDENE COMPLEX OF RUTHENIUM CONTAINING N-HETEROCYCLIC CARBENE LIGAND AND THEIR USE AS HIGHLY ACTIVE SELECTIVE CATALYST FOR OLEFIN METATHESIS例文帳に追加

Ｎ—複素環式カルベン配位子を含むルテニウムのホモバイメタル及びヘテロバイメタルアルキリデン錯体及びオレフィンメタセシスのための高活性の選択的触媒としてのそれらの使用 - 特許庁

In the formula, R expresses a methylene group, an ethylene group, a 3-20C polymethylene group, a branched alkylene group or a branched alkylidene group and n expresses a 1-5 integer.例文帳に追加

（Ｒは、メチレン基、エチレン基、或いは炭素数３〜２０のポリメチレン基、分岐を有するアルキレン基又はアルキリデン基を表し、ｎは１〜５の整数５である。） - 特許庁

The method is to react ethylene oxide with hydrogen sulfide in the presence of a resin having a structural unit expressed by formula (1) (wherein R^1 and R^2 express each an alkylene or an alkylidene; n expresses ≥1 integer).例文帳に追加

式（１）（式中、Ｒ^1及びＲ^2はそれぞれアルキレン基又はアルキリデン基を表し、ｎは１以上の整数を表す。）で示される構造単位を有する樹脂の存在下に、エチレンオキシドと硫化水素とを反応させる。 - 特許庁

This new compound is obtained by selective hydrogenation of a 4,4'- cycloalkylidenebisphenol of the general formula (II) wherein, R, X and n are each the same as described above in a solvent in the presence of a palladium catalyst.例文帳に追加

この化合物は、一般式（II） （式中、Ｒ、Ｘおよび、ｎは前記と同じ意味を表す。）で表わされる4,4'−シクロアルキリデンビスフェノール類を溶媒中、パラジウム触媒の存在下に選択的水素化することによって得ることができる。 - 特許庁

The phosphorus-containing polymer having a cycloalkylidenyl group comprises a structural unit of formula 1 or 2 (wherein R^1 and R^2 are hydrocarbon groups that are identical to or different from each other; X is a group forming a 5- or 7-membered cycloalkylene ring together with an ethylene group to which it is bonded; and n and m are each 0 or 1).例文帳に追加

又は （式中のＲ^1とＲ^2はそれぞれ同一又は異なる炭化水素基であり、Ｘはそれが結合しているエチレン基とともに五員ないし七員のシクロアルキレン環を形成する基であり、ｎ及びｍは０又は１である）で表わされる構成単位からなるシクロアルキリデニル基をもつリン含有重合体とする。 - 特許庁

The compound of the formula is obtained by treating a phosphonate derivative with a base in an inert solvent under a cooling condition or at a room temperature, followed by reacting the treated product with a carbonyl compound under a cooling condition or at a room temperature.例文帳に追加

〔式中、R^1は水素、低級アルキル基又はアルカノイル基；R^２及びR^３は水素、ニトロ基、ハロゲン、低級アルキル基、水酸基、低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アルコキシ基又はアルカノイルオキシ基；R^α及びR^βは水素、シアノ基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基、又は水酸基で置換されていてもよいフェニル基；nは0、1又は2の整数；Zは水酸基、アミノ基、ヒドロキシアミノ基、ヒドラジノ基、低級アルキリデンヒドラジノ基、グアニジノ基、モルホリノ基、アラルキル基で置換されていてもよいピペラジノ基等；或いは、R^1、R^２及びR^３のいずれか２つで-O-CH_2-O-を表す。 - 特許庁