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クロム51の英語
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英訳・英語 chromium‐51; radiochromium‐51
「クロム51」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 9件
クロムパターン５１の幅Ｗは、電極３Ａ，３Ｂ間の隙間と同じである。例文帳に追加
A width W of a chrome pattern 51 is the same as the clearance between the electrodes 3A, 3B. - 特許庁
このクロムパターン５１が薄膜４の電極３Ａ，３Ｂ間の部分４３の上に配置されるようにする。例文帳に追加
The chrome pattern 51 is arranged on a part 43 between the electrodes 3A, 3B of the thin film 4. - 特許庁
導電膜２１，２６はアルミ、モリブデン、クロムなど、金よりも廉価な金属であり、膜厚は導電粒子５１の径よりも薄い。例文帳に追加
The conductive films 21 and 26 are formed of metal less expensive than gold, such as aluminum, molybdenum, and chrome, and the film thickness is smaller than the diameter of conductive particles 51. - 特許庁
そして、その三価クロム系クロメート層が形成された主体金具１’を、アルカリケイ酸塩を溶解させたケイ酸塩溶液５１中に浸漬し、乾燥させることにより、三価クロム系クロメート層上に、珪素の酸化物を主体とするシリカ系層を形成する。例文帳に追加
A silica-based layer containing an oxide of silicon as its main constituent is formed on the chromium (III)-based chromate layer by immersing the main metal fitting 1' having the chromium (III)-based chromate layer formed in a silicate solution 51 in which alkali silicate is dissolved and drying it. - 特許庁
そして、その三価クロム系クロメート層４２ａが形成された主体金具を、アルカリケイ酸塩を溶解させたケイ酸塩溶液５１中に浸漬し、乾燥させることにより、三価クロム系クロメート層４２ａ上に、珪素の酸化物を主体とするシリカ系層４２ｃを形成する。例文帳に追加
The main body metal formed with the trivalent chromate layer 42a is immersed into silicate solution 51 dissolved with alkali silicate, followed to be dried, and a silica layer 42c having an oxide of silicon as a main component is thereby formed on the trivalent chromate layer 42a. - 特許庁
そして、その三価クロム系クロメート層４２ａが形成された主体金具３’を、アルカリケイ酸塩を溶解させたケイ酸塩溶液５１中に浸漬し、乾燥させることにより、三価クロム系クロメート層４２ａ上に、珪素の酸化物を主体とするシリカ系層４２ｃを形成する。例文帳に追加
A main body metal fitting 3' on which the trivalent chromium system chromate layer is formed is immersed in a silicate solution 51 in which an alkali silicate is dissolved and by drying the main body metal fitting, a silica system layer consisting mainly of an oxide of silicon is formed on the trivalent chromium system chromate layer. - 特許庁
そして前記絶縁基板５１の表面には前記キャップと接合する領域とその近傍にクロム、銀、アルミニウム等からなる金属膜（光線遮断膜）５３を形成し、また同表面の中央部分（赤外線入射領域）にはメッシュ状の金属膜５４が形成されている。例文帳に追加
A metal film (a light shut off film) made of chromium, silver, aluminum or the like is formed in a region joined to the cap and the vicinity of the region on the surface of the insulating base plate 51, and a mesh- like metal film 54 is fomred in the central part (an infrared incoming region) of the surface. - 特許庁
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「クロム51」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 9件
Ｔｉ系皮膜などまたはクロムアルミニウム系皮膜などの皮膜がコーティングされた使用済のホブ１１の表面に付着した表面酸化皮膜を酸洗処理工程４１により剥離した後、皮膜除去工程５１によりコーティング皮膜を除去し、次に、このホブ１１の表面に皮膜コーティング工程６１により新たなＴｉ系皮膜をコーティングすることで、ホブ１１を再生する。例文帳に追加
A surface oxide layer attached to the surface of a used hob 11 coated with the film such as the Ti film or the chrome aluminum film is stripped off by an acid washing treatment process 41, then the film is eliminated by a film eliminating process 51, and the new Ti film is formed on the surface of the hob 11 by a film coating process 61 to recycle the hob 11. - 特許庁
負極５０を作製する際には、電解銅箔などの基材５１Ａに突起部５１Ｂが形成されてなる負極集電体５１の上に、ニッケル，クロムおよび亜鉛のうちの少なくとも１種を含む金属層５２と、ケイ素などの負極活物質を含む負極活物質層５３とを順に形成する。例文帳に追加
For manufacturing an anode 50, a metallic layer 52 containing at least one out of nickel, chrome and zinc and an anode active material layer 53 containing an anode active material such as silicon or the like are formed in turn on an anode collector 51 composed of a base material 51A such as electrolyte copper foil or the like on which a projection part 51B is formed. - 特許庁
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