ジアジドの英語

レジスト用キノンジアジド系感光剤の最適構造決定方法例文帳に追加

METHOD FOR DETERMINING OPTIMUM STRUCTURE OF QUINONE DIAZIDE-BASE SENSITIZING AGENT FOR RESIST - 特許庁

キノンジアジド系感光剤が有機溶剤に溶解してなるキノンジアジド系感光剤溶液は、キノンジアジド系感光剤の析出防止剤としてチオール化合物を含有する。例文帳に追加

The quinonediazide-based photosensitizer solution obtained by dissolving the quinonediazide-based photosensitizer into an organic solvent contains a thiol compound as a precipitation inhibitor for the quinonediazide-based photosensitizer. - 特許庁

(A) 特定一般式の繰返し単位を含むポリアミド(100重量部) 、および(B) 特定一般式で表されるポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-4- スルフォン酸エステルおよび/ または1,2-ナフトキノンジアジド-5- スルフォン酸エステルを含むキノンジアジド系感光剤 (1 〜50重量部) よりなる感光性樹脂組成物。例文帳に追加

The photosensitive resin composition comprises (A) 100 pts.wt. polyamide containing repeating units of a specified formula and (B) 1-50 pts.wt. quinonediazido sensitizer containing 1,2-naphthoquinonediazido-4-sulfonic ester and/or 1,2-naphthoquinonediazido-5-sulfonic ester of a polyhydroxy compound of a specified formula. - 特許庁

組成物は、アルカリ可溶性樹脂、１，２−キノンジアジド化合物、および特定の化合物を含有する。例文帳に追加

This composition comprises an alkali-soluble resin, a 1,2-quinone diazide compound and a specific compound. - 特許庁

本発明による感光性樹脂組成物は、アクリル樹脂、キノンジアジド化合物、及び溶剤を含む。例文帳に追加

The photosensitive resin composition includes an acrylic resin, a quinone diazide, and a solvent. - 特許庁

基板１１の上面にナフトキノンジアジド・ノボラック系ポジ型フォトレジスト１２を塗布する。例文帳に追加

A naphthoquinone diazide novolac positive photoresist 12 is applied on the upper face of a substrate 11. - 特許庁

１，２−ナフトキノン−２−ジアジドスルホン酸エステル系感光剤及びホトレジスト組成物例文帳に追加

1,2-NAPHTHOQUINONE-2-DIAZIDE SULFONATE PHOTOSENSITIVE AGENT AND PHOTORESIST COMPOSITION - 特許庁

１，２−ナフトキノン−２−ジアジド誘導体を製造する場合の廃水処理方法例文帳に追加

WASTEWATER TREATMENT METHOD IN PRODUCTION OF 1,2- NAPHTHOQUINONE-2-DIAZIDE DERIVATIVE - 特許庁