スパッターリングの英語

スパッターリングターゲット材例文帳に追加

SPUTTERING TARGET MATERIAL - 特許庁

スパッターリング装置への光ディスク供給装置例文帳に追加

OPTICAL DISK-SUPPLYING DEVICE TO SPUTTERING DEVICE - 特許庁

Ｍｏスパッターリングターゲット材及びその製造方法例文帳に追加

MOLYBDENUM SPUTTERING TARGET MATERIAL AND ITS PRODUCTION - 特許庁

スパッターリング装置へのディスク供給位置を確実に行うことができ、コンパクトかつ安価なスパッターリング装置への光ディスク供給装置の提供。例文帳に追加

To provide a compact and inexpensive optical disk-supplying device to a sputtering device which is capable of surely positioning the supply of a disk to the sputtering device. - 特許庁

このＭｏスパッターリングターゲット材を製造するには、Ｍｏ素材から圧延加工率７０％以上の圧延加工を施して相対密度が９９．５％のＭｏ板を得、１１００℃〜１２００℃で熱処理し、再結晶させて１００μｍ以下の均粒な組織を有するＭｏ板からなるスパッターリングターゲット材を得ることによる。例文帳に追加

For producing the Mo sputtering target material, an Mo stock is subjected to rolling at ≥70% rolling radio to obtain an Mo sheet having 99.5% relative density, which is subjected to heat treatment at 1,100 to 1,200°C and is recrystallized to obtain a sputtering target material composed of a Mo sheet having a structure of uniform grains of ≤100 μm. - 特許庁

磁性薄膜のマグネトロンスパッターリングにおけるカソードして使用するための平面状強磁性スパッターターゲットであって、その強磁性材料が異なる透磁率の局在化した領域を有するものを提供する。例文帳に追加

In the planar ferromagnetic sputter target to be used as a cathode in the magnetron sputtering of a magnetic thin film, the ferromagnetic material has a localized reasion different in permeability. - 特許庁

Ｍｏスパッターリングターゲット材は、Ｍｏ圧延材を熱処理する事により得られるランダムな結晶方位を備えた再結晶Ｍｏ板であって、再結晶粒径の平均が１００μｍ以下である。例文帳に追加

This Mo sputtering target material is composed of a recrystallized Mo sheet with random crystal orientation obtd. by subjecting an Mo rolling stock to heat treatment, and in which the average of the recrystallized grain size is ≤100 μm. - 特許庁