ハード塩基の英語

ハードルＤＮＡおよび人為的ミスマッチ塩基が導入されたプローブを用いた、塩基ミスマッチに対する識別方法の提供。例文帳に追加

To provide a method for identifying to a base mismatch with a hurdle DNA and an artificial mismatch-introduced probe. - 特許庁

１回目のパターニングの際、化学増幅型レジスト組成物として、熱塩基発生剤を含有するレジスト組成物を使用して第一のレジストパターンを形成した後、２回目のパターニングを行う前に、第一のレジストパターンを、前記熱塩基発生剤から塩基が発生するベーク条件にてベークするハードベーク工程を行う。例文帳に追加

After the first resist pattern is formed using the resist composition containing a thermal base generator as a chemically-amplified resist composition in the first patterning, a hard bake process is performed before the second patterning, for baking the first resist pattern under a bake condition that a base is generated from the thermal base generator. - 特許庁

膜構造は、低ｋ誘電体膜１８，４２および、バリア層膜６、エッチング停止膜３０およびハードマスク膜５４のようなＮ−Ｈ塩基源膜を含む。例文帳に追加

A film structure comprises the low k dielectric films 18 and 42; a barrier layer film 6; and N-H base source films such as an etching stopping film 30 and a hard mask film 54. - 特許庁

透明フィルム基材上にハードコート層を有するハードコートフィルムにおいて、該ハードコート層の膜厚が、８μｍ以上、４０μｍ以下であって、かつ該透明フィルム基材が、セルロースエステルの存在下、多塩基酸またはその無水物と多価アルコールとのエステル化反応、またはＬ−ラクチド、Ｄ−ラクチドの開環重合などを行わせることにより生成したセルロースエステル樹脂を含有することを特徴とするハードコートフィルム。例文帳に追加

In this hard coat film having a hard coat layer on a transparent film base material, the film thickness of the hard coat layer is 8-40 μm, and the transparent film base contains cellulose ester resin generated by esterification reaction between polybasic acid or its anhydride and polyhydric alcohol, or ring-opening polymerization of L-lactide and D-lactide in the presence of cellulose ester. - 特許庁

レジスト下層膜用ハードマスク組成物に関し、末端メトキシジメチルポリシロキサンとポリメトキシシランから生成する重合体、アンスリルメチルメタクリレート・アクリル酸共重合体酸或いは塩基性触媒、そして有機溶媒を含む組成物を特徴とするレジスト下層膜用組成物を提供する。例文帳に追加

The hard mask composition for a resist underlayer film is a composition comprising a polymer produced from an end-methoxy dimethylpolysiloxane and polymethoxysilane, an acid or basic catalyst containing an anthrylmethylmethacrylate-acrylic acid copolymer, and an organic solvent. - 特許庁

アミノ基及び／又はイミノ基を分子内に２つ以上有する有機窒素化合物、有機多塩基酸、研磨材、及び水を含有してなる研磨液組成物を基板に供給し、研磨パッドを用い基板を研磨する工程を有する、ハードディスク用基板の製造方法。例文帳に追加

The method of manufacturing the substrate for a hard disk has steps to supply the polishing liquid composition comprising an organic nitrogen compound having two or more amino groups and/or imino groups in the molecule, an organic polybasic acid, an abrasive, and water to the substrate, and to polish the substrate by using a polishing pad. - 特許庁

ハードコート１２上に、シランカップリング剤からなる密着層１３を形成し、さらにこの密着層１３上に、酸、塩基、リン酸エステル、及びβージケトンから選ばれる１種又は２種以上の触媒を含有する両末端に極性基を持つパーフルオロポリエーテルからなる防汚層１４を形成する。例文帳に追加

The adhesive layer 13 comprising a silane coupling agent is formed on the hard coat 12 and further the anti-fouling layer 14 comprising a perfluoropolyether having a polar group at the both molecular ends and containing a catalyst containing one or at least two of a catalyst selected from a group consisting of an acid, a base, a phosphate ester and β-diketone is formed on the adhesive layer 13. - 特許庁