ビーム強度の英語

第一のサブビームはメインビームと強度分布が同じであり、第二のサブビームはメインビームと強度分布が異なる。例文帳に追加

The first sub beam has the same intensity distribution as that of the main beam, and the second sub beam has intensity distribution different from that of the main beam. - 特許庁

レジストマスク１０３’を形成する露光において、ビーム光が、メインビーム強度Ｉmとサイドビーム強度Ｉsとを含む強度分布を有し、メインビーム強度Ｉmとサイドビーム強度Ｉsとが、Ｉs＜Ｅ，Ｉm＞Ｅの関係を持つ（Ｅ：マスク層の残膜率が飽和を開始するビーム光強度）。例文帳に追加

In the exposure process to form the resist mask 103', the beam has the intensity distribution, having a main beam intensity Im and a side beam intensity Is, and the main beam intensity Im and the side beam intensity Is holds the relations Is<E and Im>E, where E is the beam intensity at which the film residual rate of the mask layer begins to saturate. - 特許庁

ビーム光強度分布測定方法およびビーム光強度分布測定用基板例文帳に追加

METHOD FOR MEASURING DISTRIBUTION OF BEAM LIGHT INTENSITY, AND SUBSTRATE FOR MEASURING DISTRIBUTION OF BEAM LIGHT INTENSITY OF BEAM - 特許庁

それと同時に、反射ビームの強度Ｉ_Ｒ、あるいはビーム断面内の強度分布を計測する。例文帳に追加

Simultaneously, the intensity I_R of the reflected beam or an intensity distribution in a beam section is measured. - 特許庁

荷電粒子ビームのビーム強度分布測定方法及び荷電粒子ビーム装置例文帳に追加

BEAM INTENSITY DISTRIBUTION MEASUREMENT METHOD OF CHARGED PARTICLE BEAM AND CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE - 特許庁

マルチ・ビーム走査システムにおける、ビームからビームへの強度の非均一性を調整する。例文帳に追加

To adjust the beam to beam intensity non-uniformity in a multi-beam scanning system. - 特許庁

マルチ・ビーム走査システムにおける、ビームからビームへの強度の非均一性を調整する。例文帳に追加

To adjust beam to beam intensity non-uniformity in a multi-beam scanning system. - 特許庁

電子ビームの強度分布測定方法及び強度分布測定装置例文帳に追加

MEASURING METHOD FOR INTENSITY DISTRIBUTION OF ELECTRON BEAMS AND INTENSITY DISTRIBUTION MEASURING DEVICE - 特許庁