ブロック研磨の英語

また、無端研磨ベルト３０（ダイヤモンド研磨布）による研磨では、ダイヤモンド砥石による研磨と異なり弾性研磨が可能であることから、研磨中にシリコンブロック表面に入る微小なクラックを軽減することができる。例文帳に追加

Moreover, unlike the case of polishing by a diamond wheel, in polishing by the endless abrasive belt 30 (diamond polishing cloth), elastic polishing is possible; and thereby, minute cracks occurring on the surface of the silicon block during polishing the surface can be reduced. - 特許庁

シリコンブロックの研削研磨機及びシリコンウエハの加工方法例文帳に追加

GRINDING/POLISHING MACHINE FOR SILICON BLOCK, AND METHOD OF WORKING SILICON WAFER - 特許庁

研磨装置１００は回転駆動される研磨テーブル１０６と、研磨テーブル１０６上の研磨布１０７に研磨液を供給する研磨液供給ノズル１０９と、被研磨材料１０１を保持して回転させながら研磨布に押圧する固定ブロック１０２とを備えている。例文帳に追加

A grinding device 100 is equipped with: a grinding table 106 rotatably driven, an abrasive fluid supply nozzle 109 for supplying abrasive fluid to an abrasive cloth 107 on the table 106, and a fixed block 102 for holding a material 101 to be ground to push it to an abrasive cloth while rotating the material 101. - 特許庁

支持体２上に研磨材と結着剤を含む研磨層３を塗布してなり、研磨層３の表面を、縦５０〜１００μｍ、横７５〜１５０μｍのブロック体31の連続集合体によるブロック状模様で構成している。例文帳に追加

The polishing medium is constituted by applying the polishing layer 3 including the polishing material and the binder on the support body 2, and a surface of the polishing layer 3 is constituted of a block type pattern by a continuous aggregate of block bodies 31 of longitudinally 50-100 μm and laterally 75-150 μm. - 特許庁

外部研磨樹脂体３１と研磨樹脂ブロック２３との間の摩擦係数は精米網３０とブロック２３との間の摩擦係数より大きいので精白米は強く研磨され、表面の糠は剥離される。例文帳に追加

Since the friction coefficient between the external polishing resin material 31 and the polishing resin blocks 23 is higher than that between the rice-milling net 30 and the polishing resin blocks 23, milled and/or polished rice is polished strongly so that the bran on the surface of the rice is peeled away. - 特許庁

ワックスマウント方式によっても研磨ブロックとウェーハ裏面との間に気泡が封入されにくくワックスの厚さを均一にすることができる構造の研磨ブロックを供給すると共に、その研磨ブロックの使用によって、研磨後のウェーハに凹みが生じることのない研磨が行える研磨方法を提供する。例文帳に追加

To provide a polishing block with a structure hardly ever sealing bubbles between the polishing block and a wafer back face for uniformalizing a thickness of wax even by a wax mount method, and provide a polishing method capable of polishing without occurrence of a recess on the wafer after polishing by using this polishing block. - 特許庁

自動車の車体表面の湾曲に適切に対応して研磨及び仕上げを行うことに適した研磨用ブロックを提供する。例文帳に追加

To provide a polishing block suitable for polishing and finishing while suitably responding to a curve of a vehicle body surface of an automobile. - 特許庁

現地のコンクリートブロックを、連続的に研磨加工し、その加工面を一定の高さレベルに揃える水平研磨加工機を提供する。例文帳に追加

To provide a horizontal polishing machine which continuously polishes a concrete block on a site so as to keep the polished surface thereof flush at a fixed height. - 特許庁