プラズマの径方向の英語

誘導結合型のプラズマ処理装置において方位角方向さらには径方向のプラズマ密度分布の均一性または制御性を向上させること。例文帳に追加

To improve uniformity or controllability of plasma density distribution in an orientation angle direction and in addition a diameter direction in an inductive coupling type plasma processing apparatus. - 特許庁

これにより、上部電極３８付近でプラズマ中の電子が電界［Ｅ］と磁場［Ｂ］とによるローレンツ力を受けて径方向にドリフトし、プラズマイオンも電子を追いかけるようにして同方向に移動する。例文帳に追加

Accordingly, electron in the plasma receives a Lorentz force by the electric field [E] as well as the magnetic field [B], and is drifted into the radial direction near the upper electrode 38 whereby plasma ion is moved into the same direction to pursue the electron. - 特許庁

誘導結合型プラズマ処理装置において、ＲＦアンテナ内の波長効果を十全に抑制しつつ、周回方向にも径方向にも均一なプラズマプロセスを容易に実現すること。例文帳に追加

To easily enable a plasma process which is uniform in the circumferential direction as well as the radial direction in an induction-coupled plasma processing apparatus, while sufficiently suppressing a wavelength effect in a radio frequency (RF) antenna. - 特許庁

ＲＦアンテナ内の波長効果を十全に抑制しつつ、周回方向にも径方向にも均一なプラズマプロセスを容易に実現する。例文帳に追加

To easily enable a plasma process which is uniform in the circumferential direction as well as the radial direction, while sufficiently suppressing a wavelength effect in a radio frequency (RF) antenna. - 特許庁

プラズマ放電のターゲット面13a の径方向への移動に対応してターゲット面13a の回転速度を回転速度調整手段で調整することにより、プラズマ放電の出力位置の周速度を一定にする。例文帳に追加

Peripheral velocity of the output position of the plasma discharge is fixed by adjusting the rotating speed of the target surface 13a with a rotating speed adjusting means in response to the radial directional movement of the target surface 13a of the plasma discharge. - 特許庁

補助陽極２とプラズマ発生用多孔陽極３との間には、プラズマ中の放電電流（電子の流れ）Ｉを径方向に広げるよう所定の磁場を発生する永久磁石８が設けられている。例文帳に追加

A permanent magnet 8 is provided between the auxiliary anodes 2 and the anode 3 to generate a specific magnetied field to widen discharging current I (current of electrons) in plasma in radial direction. - 特許庁

本発明は、大面積に渡り半径方向に均一で他界プラズマ密度の磁気によって促進された容量結合型の平板プラズマを提供することを企図している。例文帳に追加

To provide magnetically enhanced capacitively coupled planar plasma with radially uniform and high plasma density over a large area. - 特許庁

この誘導結合型プラズマ処理装置においては、誘導結合プラズマを生成するために誘電体窓５２の上に設けられるＲＦアンテナ５４が径方向で内側コイル、中間コイルおよび外側コイル６２に分割されている。例文帳に追加

In an induction-coupled plasma processing apparatus, an RF antenna 54 provided on a dielectric window 52 to generate induction-coupled plasma is divided into an inner coil, an intermediate coil, and an outer coil 62 in the radial direction. - 特許庁