ベアウの英語

シリコンベアウエハの乾式研磨に用いる研磨速度が速い、研磨加工具の提供。例文帳に追加

To provide a high-speed polishing tool for dry polishing of silicon bare wafers. - 特許庁

基板処理装置において、ベアウエハに対する膜厚測定結果から効率的に処理部に対してフィードバック制御を行うことを課題とする。例文帳に追加

To effectively perform feedback control to a treatment part from the result of film thickness measurement to a bare wafer in a substrate treatment apparatus. - 特許庁

塗布処理ユニットＳＣにおいてレジスト塗布されたベアウエハはプリベーク処理後、検査ユニット１１において膜厚測定が行われる。例文帳に追加

The film thickness measurement of the bare wafer resist-coated in the coating treatment unit SC is performed in the inspection unit 11 after prebaking process. - 特許庁

ベアウェーハの異物の画像を撮像する際に、スループットの低下を防ぐことができる荷電粒子線装置を提供する。例文帳に追加

To provide a charged particle beam apparatus for preventing a decrease in throughput in picking up an image of a foreign substance on a bare wafer. - 特許庁

予め、ウエハが加熱プレートから浮いていることによるウエハの設定温度に対する温度低下分αと、ベアウエハを用いた場合における熱放射による温度低下分βを求めておき、しかる後熱流計にてベアウエハ及びウエハの夫々から放出される熱流値ｑＢ、ｑ１を求める。例文帳に追加

After a temperature drop α from the set temperature of a wafer, caused by the floating state of the wafer from a heating plate and a temperature drop β caused by heat radiation when a bare wafer is used are found, values qB and q1 of heat flows discharged from the bare wafer and wafer are found by means of a heat flow meter. - 特許庁

固体撮像素子とカバーガラスとの間に配置されるスペーサーの基材となるスペーサ用ウエハとして、スペーサーの高さ寸法よりも厚く安価なベアウエハを使用する。例文帳に追加

As a wafer for a spacer becoming the substrate of a spacer disposed between a solid state image sensor and cover glass, an inexpensive bare wafer thicker than the height of the spacer is used. - 特許庁

ベルチシリウム（Ｖｅｒｔｉｃｉｌｌｉｕｍ）属、ベアウヴェル（Ｂｅａｕｖｅｒ）属、ムコール（Ｍｕｃｏｒ）属、リゾプス（Ｒｈｉｚｏｐｕｓ）属、ヒポクレア（Ｈｙｐｏｃｒｅａ）属に属する微生物が、優れたソルビンアルコール生成能を有することを見出した。例文帳に追加

It is found that microorganisms belonging to the genuses of Verticillium, Beauver, Mucor, Rhizopus and Hypocrea have excellent abilities for producing the sorbic alcohol. - 特許庁