一般式（ａ）及び（ｂ）で示される繰り返し単位を有する高分子化合物を含有するするポジ型レジスト材料。例文帳に追加

The positive resist material comprises a polymer having repeating units represented by formulae (a) and (b). - 特許庁

特定の基を少なくとも１個有する繰り返し単位を少なくとも１種有する樹脂を含有するポジ型レジスト組成物。例文帳に追加

The positive-working resist composition comprises a resin having at least one repeating unit having at least one group represented by formula (Z). - 特許庁

式(IV)と(V)の一つ以上の繰り返し単位と、式(I)の繰り返し単位と、式(II)の繰り返し単位とを有する樹脂及び酸発生剤を含む化学増幅型ポジ型レジスト組成物。例文帳に追加

The chemically amplified positive resist composition contains: a resin having one or more repeating units expressed by formulae (IV) and (V), a repeating unit expressed by formula (I), and a repeating unit expressed by formula (II); and an acid generator. - 特許庁

このＰＭ吹き返し量に基づいて、吸気バルブに堆積するデポジット量を推定する（ステップ１０６）。例文帳に追加

The deposit amount accumulated on the suction valve is estimated based on the PM blow back amount (step 106). - 特許庁

特定構造を有する繰り返し単位と、酸で分解して酸基を発生させることが可能な基を有する繰り返し単位を有する高分子化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。例文帳に追加

The positive photoresist composition contains a high molecular compound, having repeating units with a specified structure and repeating units containing a group which is decomposed by an acid and can generate an acid group. - 特許庁

式（Ｉ）のシリコン含有繰り返し単位と式（II）の特定の構造の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する酸分解性ポリマーを含有するポジ型フォトレジスト組成物。例文帳に追加

The positive photoresist composition contains an acid- decomposable polymer which contains a silicon-containing recurring unit expressed by formula (I) and a recurring unit of a specified structure expressed by formula (II) and which increases the solubility with an alkali developer by the effect of an acid. - 特許庁

画像処理部８ｃは、透視断層画像にポジトロン断層画像を合成して合成画像を繰り返し生成する。例文帳に追加

An image processing part 8c combines the positron tomographic images with the fluoroscopic tomographic images and repeatedly generates composite images. - 特許庁

一般式（ａ）、及び（ｂ−１）又は（ｂ−２）の繰り返し単位を有する高分子化合物を含むポジ型レジスト材料。例文帳に追加

The positive resist material contains a polymer compound having repeating units represented by general formulae (a) and (b-1) or (b-2). - 特許庁

分岐爪の駆動を複数回繰り返し、またポジションセンサ検知前にステッピングモータを励磁して微小変位のない位置を検知する。例文帳に追加

To detect a position without causing microscopic displacement, by exciting a stepping motor, before detecting a position sensor, by repeating driving of a branch claw in a plurality of times. - 特許庁

繰り返し駆動での色調変動が少ないエレクトロデポジション方式の表示素子を提供する。例文帳に追加

To provide a display element of an electrodeposition system, in which the color tone variations due to repeated driving is reduced. - 特許庁

高い表示速度で表示の繰り返し回数の大きいエレクトロデポジション表示装置を提供する。例文帳に追加

To provide an electrodeposition display device of a large number of times of repetition of display at a high display speed. - 特許庁

（Ａ）特定のフェノール性ヒドロキシ基を含有する繰り返し単位と非フェノール性の繰り返し単位とを有するポリイミド樹脂と、（Ｂ）キノンジアジド化合物を含有するポジ型感光性樹脂組成物。例文帳に追加

The positive photosensitive resin composition contains: (A) a polyimide resin having a repeating unit containing a specified phenolic hydroxyl group and a non-phenolic repeating unit; and (B) a quinone diazido compound. - 特許庁

本発明は、イソプレン等の多価オレフィンモノマーから誘導された繰り返し単位を少なくとも３．５モル％有するブチルゴムアイオノマーを含む、ナノコンポジットおよびナノコンポジットの作製方法に関する。例文帳に追加

A nanocomposite containing at least 3.5 mol% repeating units derived from a polyvalent olefin monomer, such as isoprene, and a production method of the nanocomposite are provided. - 特許庁

特定のシリコン含有繰り返し単位と、特定の構造の繰り返し単位のうち少なくともいずれかの繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する酸分解性ポリマーを含有する事を特徴とするポジ型フォトレジスト組成物例文帳に追加

The positive photoresist composition contains an acid decomposable polymer containing specified silicon-containing repeating units and repeating units with one of specified structures and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid. - 特許庁

特定のシリコン含有繰り返し単位と、特定の構造の繰り返し単位のうち少なくともいずれかの繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する酸分解性ポリマーを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物例文帳に追加

Each of the positive photoresist compositions contains an acid decomposable polymer containing at least specified silicon-containing repeating units or repeating units with a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid. - 特許庁

式(I)の繰り返し単位と、式(IV)と(V)の一つ以上の繰り返し単位などを有する樹脂及び酸発生剤を含む化学増幅型ポジ型レジスト組成物。例文帳に追加

The chemically amplified positive resist composition includes a resin having a repeating unit of formula (I), one or more repeating units of formulas (IV) and (V), etc., and an acid generator. - 特許庁

芳香環を側鎖に有する特定の繰り返し単位と、窒素原子を側鎖に有する特定の繰り返し単位を含む高分子化合物（ＰＢ）、及び、スルホン酸のスルホニウム塩を側鎖に有する特定の繰り返し単位と、酸分解性保護基で保護された酸性側鎖を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物（ＰＡ）を含有する化学増幅ポジ型レジスト組成物。例文帳に追加

The chemically amplified positive resist composition comprises a polymer (PB) comprising specific recurring units having an aromatic ring on a side chain and specific recurring units having a nitrogen atom on a side chain, and a polymer (PA) comprising specific recurring units having the sulfonium salt of a sulfonic acid on a side chain and recurring units having an acidic side chain protected with an acid decomposable protective group. - 特許庁

特定のシリコン含有繰り返し単位と、特定の酸分解性基を有する繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。例文帳に追加

The positive photoresist composition contains a resin containing specified silicon-containing repeating units and repeating units each having a specified acid decomposable group and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of an acid and a compound which generates the acid when irradiation with active light or radiation. - 特許庁

特定の脂環式構造を主鎖に有する繰り返し単位と、酸で分解して酸基を発生させることが可能な基を有する繰り返し単位と、を有する高分子化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。例文帳に追加

The positive photoresist composition contains a high molecular compound having repeating units each having a specified alicyclic structure in the principal chain and repeating units each having a group capable of generating an acid group when decomposed by an acid. - 特許庁

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）繰り返し単位の少なくとも１種として、特定の架橋繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する架橋樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。例文帳に追加

The positive resist composition comprises (A) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation and (B) a crosslinked resin having a specified crosslinked repeating unit as at least one of repeating units and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid. - 特許庁

酸に不安定な基を側鎖に有する繰り返し単位及び式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有する樹脂と、アルキルオキシカルボニル基を有するフルオロメタンスルホニルアニオンを有する酸発生剤とを含む化学増幅型ポジ型レジスト組成物。例文帳に追加

The chemically amplified positive resist composition comprises a resin having a repeating unit containing an unstable radical in acid in the side chain and a repeating unit expressed by a formula (I); and an acid generation agent containing fluoromethane sulfonyl anion having an alkyl oxy-carbonyl group. - 特許庁

少なくとも、下記一般式（１）で示される基を有する繰り返し単位ａと、水素原子が酸不安定基で置換されたカルボキシル基を有する繰り返し単位ｂとを含む高分子化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト材料。例文帳に追加

The positive type resist material contains a high molecular compound including a repeating unit (a) having a group represented by a general formula (1) and a repeating unit (b) having a carboxyl group having hydrogen atom substituted for an acid labile group. - 特許庁

（Ａ）特定の繰り返し単位と、特定の繰り返し単位とを有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。例文帳に追加

The positive resist composition contains: (A) a resin which has a specific repeating unit having a norbornene structure at its side chain and is increased in solubility in an alkaline developing solution by the effect of an acid; and (B) a compound which generates an acid by irradiation with active light or radiation. - 特許庁

α−ヘテロメチル構造を有する、特定のモノマーに相当する繰り返し単位を含有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型画像形成材料。例文帳に追加

The positive image forming material contains a resin containing repeating units corresponding to a specified monomer having an α-heteromethyl structure. - 特許庁

下記一般式（１）〜（６）から選ばれる繰り返し単位を有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂を２種類含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法。例文帳に追加

The positive resist composition contains two kinds of resins each of which has a repeating unit selected from among general formulas (1) to (6) and has solubility in an alkali developing solution increased by action of an acid, and the pattern forming method is also provided. - 特許庁

（Ａ）一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位と一般式(II)で表される繰り返し単位を有する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物、並びに該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法。例文帳に追加

The positive photosensitive composition contains (A) a resin having a repeat unit represented by general formula (I) and a repeat unit represented by general formula (II), and (B) a compound which generates an acid by irradiating with an active ray or radiation, and the pattern forming method using the positive photosensitive composition is also provided. - 特許庁

（Ａ）特定の構造で表される酸を発生するスルホニウム塩化合物、（Ｂ）特定の構造の繰り返し単位を有する酸分解性シロキサンを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。例文帳に追加

The positive photoresist composition contains (A) an acid generating sulfonium salt compound represented by a specified structure and (B) an acid decomposable siloxane having repeating units of a specified structure. - 特許庁

側鎖に、酸分解性基またはアルカリ可溶性基を有し、少なくともひとつのフッ素原子を有する基を有する繰り返し単位を少なくともひとつ以上有する樹脂を含有するポジ型レジスト組成物。例文帳に追加

This positive resist composition contains a resin, having at least one repetitive unit which has an acid decomposition group or an alkali-soluble group and has at least one fluorine atom, at a side chain. - 特許庁

脂環基を有する特定の繰り返し単位を含有する樹脂を２種、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。例文帳に追加

The pattern forming method in which the positive resist composition is used contains two kinds of resins containing specific repetitive units with alicylic groups, and (B) compound generating an acid upon being irradiated with active rays or radiation rays. - 特許庁

脂環基を有する特定の繰り返し単位を含有する樹脂を２種、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。例文帳に追加

The positive resist composition comprises: two resins (A1) and (A2) containing a specified repeating unit having an alicyclic group; and a compound (B) which generates an acid upon irradiation with an active light or a radiation. - 特許庁

（Ａ）特定構造のＮ−オキシイミドスルホニル基を有する繰り返し単位を構成成分とする樹脂を含有する、電子線又はＸ線用ポジ型レジスト組成物。例文帳に追加

The positive resist composition for electron beams or X rays contains a resin (A) having a repeating unit having N-oximide sulfonyl groups of a specified structure as the structural component. - 特許庁

（Ａ）一般式（III）又は（IＶ）で表される特定の繰り返し単位を少なくとも１個有する樹脂、及び（Ｂ）ジスルホン基を有する化合物を含有する電子線又はＸ線用ポジ型レジスト組成物。例文帳に追加

The positive type resist composition for electron beams or X-rays contains (A) a resin having at least one of specified repeating units of formula (III) or (IV) and (B) a compound having a disulfone group. - 特許庁

（Ａ）特定の構造で表されるスルホン酸を発生する化合物、（Ｂ）特定のシリコン含有繰り返し単位と、特定の構造の繰り返し単位のうち少なくともいずれかの繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する酸分解性樹脂を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。例文帳に追加

The positive type pbotoresist composition contains (A) a sulfonic acid generating compound represented by a specified structure and (B) an acid decomposable resin containing at least specified silicon-containing repeating units or repeating units with a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of the acid. - 特許庁

（Ａ）特定の構造で表される酸を発生する化合物、（Ｂ）特定のシリコン含有繰り返し単位と、特定の構造の繰り返し単位のうち少なくともいずれかの繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する酸分解性樹脂、（Ｃ）特定の溶剤を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。例文帳に追加

The positive type photoresist composition contains (A) an acid generating compound represented by a specified structure, (B) an acid decomposable resin containing at least specified silicon-containing repeating units or repeating units with a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of the acid and (C) a specified solvent. - 特許庁

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び特定構造の酸分解性脂環オレフィン系繰り返し単位、特定構造の無水物系繰り返し単位、及び特定構造の酸分解性アクリル系繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。例文帳に追加

The positive photoresist composition for exposure to far UV rays contains a compound which produces acid by irradiation of active rays or radiation and a resin which contains an acid-decomposing alicyclic olefin repeating unit having a specific structure, an anhydride repeating unit having a specific structure and an acid-decomposing acrylic repeating unit having a specific structure and which increases the dissolving rate to an alkali developer by the effect of acid. - 特許庁

その場の状況に適応したカメラポジショニングを伴うカメラワーク制御で撮影することで、後で見返したくなるような映像を生成するための装置を提供する。例文帳に追加

To provide an automatic photographing device which is used for forming images that are desired to be viewed again later by photographing an object with camera work control accompanied by camera positioning suitable to the context on the occasion. - 特許庁

特定構造の光酸発生剤を２種以上と異なった特定構造の繰り返し構造単位を有し、かつ酸の作用により分解する基を有する重合体を含有するポジ型レジスト組成物。例文帳に追加

The positive resist composition contains two or more photo-acid generating agents each with a specified structure and a polymer having repeating structural units with different specified structures and also having a group which is decomposed by the action of an acid. - 特許庁

（Ａ）電子線又はＸ線により、酸を発生し得る基を有する繰り返し単位を構成成分として含む樹脂を含有する、電子線又はＸ線用ポジ型レジスト組成物。例文帳に追加

The positive type resist composition contains (A) a resin containing repeating units each having a group capable of generating an acid under electron beams or X-rays as a constitutive component. - 特許庁

この装置を用いて、エッチング主体の工程とデポジション主体の工程を切り換えて繰り返し行うことにより、単結晶シリコンに深い溝加工を行ったところ、発生する反射電力を抑制することができた。例文帳に追加

When a deep trench machining is performed for monocrystal silicon by using this device to repeat switching of an etching primary process and a deposition primary process, a generated reflection electric power can be suppressed. - 特許庁

巡回監視を繰り返しながら画面の動きを検出する撮像装置において、各撮像ポジションで前回監視の画面と現在の画面とを比較して動きを検出する。例文帳に追加

The image pickup device that detects the movement of a screen, while repeating circulation monitoring and detects the movement by comparing the previous monitoring screen with the present screen at each imaging position. - 特許庁

ポジ型フォトレジスト組成物は、放射光感受性酸発生剤とポリマーとを含み、このポリマーは、フルオロスルホンアミド官能基を含むスルホンアミド単量体から誘導された第１の繰返し単位と、酸不安定ペンダント部分を含むことができる第２の繰返し単位とを含むことができる。例文帳に追加

The positive photoresist composition contains a radiation sensitive acid generator and a polymer, wherein this polymer can contain a first repeating unit derived from a sulfonamide monomer containing a fluorosulfonamido functional group and a second repeating unit that can contain an acid-labile pendant moiety. - 特許庁

少なくとも、ベース樹脂に含まれる高分子化合物が、波長２４８nmの光において吸収のある酸不安定基を有する繰り返し単位を含むものであり、且つ、該繰り返し単位が、前記ベース樹脂に含まれる全ての高分子化合物の繰り返し単位中、１％〜１０％の割合で含まれるものであることを特徴とするポジ型レジスト材料。例文帳に追加

The positive type resist material is one wherein the polymer compound contained in a base resin comprises at least repeating units having acid-unstable groups which absorb light at a wavelength of 248 nm, and the repeating units are contained in an amount of 1 to 10% based on the entire repeating units of the polymer compound contained in the base resin. - 特許庁

（Ａ）下記式（ａ）で表される繰り返し単位を有する構造を有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する基を有する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する酸発生剤、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。例文帳に追加

The positive resist composition contains: (A) a resin which has a structure having a repeating unit expressed by formula (a) and the solubility of which with an alkali developing solution is increased by the effect of an acid; and (B) an acid generating agent which generates an acid by irradiation with active rays or radiation. - 特許庁

地面ぎりぎりから撮影する独特の低いカメラアングルと厳格なまでの正面からの切り返しのフィクスショットを特徴とし、ローポジションの映画監督としても知られている。例文帳に追加

He was known as a movie director favoring a low position with distinct low camera angles filmed just above the ground and stern frontal fixed shots.発音を聞く  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス