レジ打ちの英語

そして、この状態で基板Ｇの周縁に除去液を噴出しているので、残存するレジストの端部が波打ち状になるという問題を解消する。例文帳に追加

In such a state, a remover is jetted out to the edge of the substrate G, thereby solving a problem that the terminal of a remaining resist becomes wavelet. - 特許庁

図２（Ｆ）に示すように、多結晶Ｓｉ膜３により高抵抗部を形成するため、他をレジスト６でマスクしてから、イオン打ち込みを行う。例文帳に追加

As shown in figure (F), for forming a high resistance section from a polycrystalline silicon film 3, ions are implanted with parts other than the part where a high resistance section is to be formed masked with a resist. - 特許庁

また、金属板２と絶縁層３と電極４を圧着後、基板両面のレジストパターニングを行って、エッチングにより電極パターンと同時に金属板２の周縁部の溝を作製し、その後、溝に沿った切削加工又は打ち抜き加工をし複数個に分割する。例文帳に追加

The metal plate 2, an insulating layer 3, and an electrode 4 are pressure-bonded before both the surfaces of a substrate are subjected to resist patterning, thus manufacturing an electrode pattern and the groove of the periphery of the metal plate 2 simultaneously by etching, and then performing cutting along the groove or punching for dividing into a plurality of pieces. - 特許庁

その後、（ｃ）に示すように、Ａｌ配線とのコンタクトを形成する部分のみ開口したレジストマスク６を形成してから、（ｄ）でｎ型の不純物のＰ（リン）を打ち込み、高濃度のｎ型多結晶シリコン領域４ａを（ｅ）に示すように形成する。例文帳に追加

Thereafter, as shown in step (c), a resist mask 6 having openings only at contact forming portions for connection with Al interconnections is formed, after which P ions of an n-type impurity are implanted in step (d) to form highly doped n-type polycrystalline silicon regions 4a as shown in step (e). - 特許庁

一方、理想出力値レジスタ１１には予め理想出力値をセットしており、これより得られる理想出力値と、求めた平均出力値との差分を差分演算器１３で求め、その差分を打ち消すようなアンプの制御値を制御値演算器より出力する。例文帳に追加

On the other hand, an ideal output value is previously set in an ideal output value register 11, a different calculator 13 provides the difference between the ideal output value obtained therefrom and the obtained mean output value, and a control value calculator 13 outputs an amplifier control value for canceling this difference. - 特許庁

基板に対し、例えば現像液、洗浄液、ＳＯＧ溶液、レジスト液等の塗布液を塗布する際に、塗布開始点周辺の塗膜の盛り上がりを低減でき、且つ塗膜全体の波打ちをも低減できる塗膜形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for forming a coating film, by which a swell of the coating film can be decreased around an application starting point and the undulation of the whole coating film can also be decreased when a coating liquid (for example, a developer, a cleaning liquid, a SOG solution and a resist liquid) is applied to a substrate. - 特許庁

導体回路とソルダレジストとロードマップ（部品配置図）とを有するプリント配線板において、一部工程の欠落、および工程の順序の間違いを防止し、また、同一金型で打ち抜かれて同一の外形形状を有するプリント配線板の区別を容易にする。例文帳に追加

To prevent processes from being omitted and an error from occurring in order of processes and to easily distinguish among printed circuit boards, which are punched out with the same metal mold and of the same external shape, in a printed circuit board equipped with a conductor circuit, a solder resist, and a loading map (part layout figure). - 特許庁

基板上にゲート開口部とソース／ドレーン開口部を有する第一絶縁層２２を形成し、第一絶縁層上にＬＤＤレジストマスクを形成し、基板に軽くドープした第一ドレーン領域３４を形成すべくソース／ドレーン開口部を通じてイオンを打ち込む。例文帳に追加

A first insulating layer 22 having the gate opening and source/ drain openings is formed on a substrate, an LDD resist mask is formed on the first insulation layer, and ions are implanted through the source/drain openings so as to form a lightly doped first drain region 34 on the substrate. - 特許庁