二測投象の英語

そこで、二次元シャッタ８６中の開状態とするシャッタを適当に選択することにより、必要に応じて種々の形状の投射パターンを形状計測対象物８４に投射する。例文帳に追加

By properly selecting a shutter in the two dimensional shutter 86 for providing an opening state, various projection patterns are projected on the geometry measurement object 84, if necessary. - 特許庁

測定対象物１６で光が反射する位置は、投光モジュール９の光軸Ｌ_１上において、光源１１に近い第一の位置Ｐ_Ｎ１から光源１１から離れた第二の位置Ｐ_Ｆ１までの所定の範囲Ｗ_１である。例文帳に追加

Positions reflecting light in the measuring object 16 are in a predetermined range W_1 from a first position P_N1 close to a light source 11 to a second position P_F1 away from the light source 11, on an optical axis L_1 of the light projection module 9. - 特許庁