二重露光の英語

光露光部１０と電子ビーム露光部１２の接続部に、光と電子ビームの双方で露光する二重露光部１６を設ける。例文帳に追加

In this pattern forming method, a double exposed part 16 exposed by both a light and an electron beam is arranged at the connecting part of a light exposing part 10 and an electron beam exposing part 12. - 特許庁

ゲートパターンを形成するための二重露光二重レジスト層プロセス例文帳に追加

DOUBLE EXPOSURE DOUBLE RESIST LAYER PROCESS FOR FORMING GATE PATTERN - 特許庁

２つの分割露光領域が重なる部分は、露光誤差を考慮して二重露光される部分を有する。例文帳に追加

The part where two division exposure regions are overlapped includes a part subjected to double exposure by considering the exposure error. - 特許庁

プロキシミティ方式を用いた基板の露光において、マスクへ照射される光の一部を遮断して露光領域を制限する際、露光領域の境界付近で露光不足や二重露光が発生するのを防止する。例文帳に追加

To prevent occurrence of underexposure and double exposure near a boundary of an exposure region when a part of light radiated to a mask is blocked to restrict the exposure region in the exposure of a substrate using a proximity system. - 特許庁

プロキシミティ方式を用いた基板の露光において、マスクへ照射される光の一部を遮断して露光領域を制限する際、露光領域の境界付近で露光不足や二重露光が発生するのを防止する。例文帳に追加

To prevent insufficient exposure light or duplicated exposure near the boundary of an exposure region when the light irradiating a mask is partly cut to restrict the exposure area in the exposure of a substrate by using a proximity method. - 特許庁

二重露光リソグラフィを実行するための方法、プログラム製品及び装置例文帳に追加

METHOD FOR EXECUTING DOUBLE-EXPOSURE LITHOGRAPHY, PROGRAM PRODUCT AND DEVICE - 特許庁

二重露光において、パターン分解の最適なアルゴリズムを提供する。例文帳に追加

To provide an algorithm most suitable for pattern decomposition in double exposure. - 特許庁

光計測を用いた二重露光リソグラフィの位置精度判断例文帳に追加

JUDGEMENT OF POSITION ACCURACY OF DOUBLE EXPOSURE LITHOGRAPHY USING LIGHT MEASUREMENT - 特許庁