光化学照射量の英語

露光ビームを基板に照射して露光を行なう露光装置の光学素子をクリーニングする方法において、該光学素子が置かれた空間に微量の酸素を含む不活性ガスを供給して、該露光ビームを照射することで該空間内にてオゾン生成させ、該生成したオゾンと該露光ビームの照射による光化学反応によって該光学部材に付着した有機化合物を除去する。例文帳に追加

The method of cleaning the optical device of an aligner for emitting an exposure beam to an substrate to exposure the substrate includes: providing an inert gas containing a small amount of oxygen to a space in which the optical device is disposed; emitting the exposure beam to the space to generate ozone in the space; and photochemically reacting the generated ozone with the emitted exposure beam to remove organic molecules adhered on the optical device. - 特許庁