全たわみの英語

ミラーを支持する下部支持台が、ミラーの内部ストレス値による撓み方向とは反対方向の撓み方向のストレス値を有するようにして、全体として撓み力が平衡となるようにした回折光変調器を提供する。例文帳に追加

To provide a diffraction optical modulator which has balanced distortions as a whole by making the lower support stand supporting the mirror receive a stress in the direction opposite to the distortion direction by the internal stress of the mirror. - 特許庁

本発明はこれらの欠点を補う為に、携帯物を衣服のどの場所にでも係止できる取り付け具であって、衣服の布面にたわみをつくり、そのたわみに布針を安全に刺し止めすることで、フック又は、ホルダーなどの装備されている携帯物を係止できる、携帯物取り付け具を提供するものである。例文帳に追加

By forming flexure on the surface of clothes, a cloth needle is safely penetrated and fastened to the flexure to enable belongings with a hook, holder, etc. to be engaged with the attaching tool. - 特許庁

これにより、ローラ６３の長手方向において「うねり」や「たわみ」があったとしても、ブレード７１がその「うねり」や「たわみ」に応じて変形して長手方向の全体に渡ってローラ６３に接触できるため、ローラ６３への付着物が確実に除去される。例文帳に追加

This allows the deposit adhering to the roller 63 to be definitely removed because the blade 71 can be distorted in response to "the wave" and "bowing" to contact the roller 63 over the entire length even if the wave and bowing occur in the longitudinal direction of the roller 63. - 特許庁

撓み空間３５を構成する周壁３５Ａは、撓み空間３５を成形する金型をカム板３１の厚さ方向内側から外側に向けて型抜きすることで全周方向に亘って形成されるから、撓み空間３５の周辺部分における強度確保を行うことができる。例文帳に追加

A peripheral wall 35A constituting the bending space 35 is formed across the full circumferential direction by punching out with a die for forming the bending space 35, toward the outside from the inside of the thickness direction of the cam plate 31, resulting in assuring strength at the peripheral part of the bending space 35. - 特許庁

半導体パッケージ基板のダミー領域に所定の形状の銅パターンを形成することにより、半導体パッケージ基板全体のたわみを改善することが可能な半導体パッケージ基板を提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor package substrate whose total bending can be improved by forming a copper pattern having a predetermined shape in its dummy region. - 特許庁

マーク基板ホルダ１０１が、レチクルホルダ１０３と同様の構造により、静電チャックによりマーク基板の裏面全体を吸着するので、マーク基板の自重たわみの影響は十分に低減することが可能である。例文帳に追加

A mark substrate holder 101 absorbs the whole rear surface of the mark substrate by an electrostatic chuck, with the structure same as that of a reticle holder 103 to fully reduce an influence of a deflection by own weight of the mark substrate. - 特許庁

マスク２を搭載したハンドリングアーム５０のたわみ量が小さくなり、大型のマスク２が、ハンドリングアーム５０から落下する恐れなく安全に搬送される。例文帳に追加

An amount of deflection of the handling arm 50 on which the mask 2 is loaded becomes small, and the large mask 2 is safely carried without the risk of falling off from the handling arm 50. - 特許庁

完全に平行にはできない電子ビームにより露光を行う際に、マスクたわみによるパターン線幅のばらつきを修正する電子ビーム露光装置に使用するマスクを提供する。例文帳に追加

To provide a mask for use in an electron beam aligner correcting a variation in the line width of a pattern due to the deflection of the mask when exposure is performed using an electron beam which cannot be made parallel completely. - 特許庁