全体熱処理の英語

一次熱処理で窒素富化層を形成し、二次熱処理で再焼入れする熱処理システムにおいて、二次熱処理での加熱温度を厳密に管理することにより、部品全体で結晶粒を均一に微細化する。例文帳に追加

To uniformly micronize crystal grains in the whole body of a part by strictly controlling the heating temperature in secondary heat treatment in a heat treatment system in which a nitrogen-enriched layer is formed in primary heat treatment and a re-quenching is applied in the secondary heat treatment. - 特許庁

熱処理方法は、外輪２の軌道面５、６を、前記外輪２の外周面全体に水２７を噴きつけて冷却しながら熱処理する。例文帳に追加

The heat-treatment method includes: heat-treating the raceway surfaces 5, 6 of the outer-ring 2 while cooling by spraying water 27 to the entire outer peripheral surface of the outer-ring 2. - 特許庁

熱処理炉の排ガス処理装置を小型化して、熱処理炉全体の設備費を軽減すると共に、ランニングコストを節約する。例文帳に追加

To reduce the equipment cost of the whole of a heat treatment furnace and to save the running cost by miniaturizing an exhaust gas treatment device of the heat treatment furnace. - 特許庁

熱処理対象物全体をできる限り均一にガス冷却する熱処理炉を、簡易な構成で実現する。例文帳に追加

To realize a heat-treatment furnace, in which the whole body of heat-treatment objective material is subjected to gas-cooling as uniformly as possible, with simple constitution. - 特許庁

必要に応じて特定部位に対する冷却効果を強めて熱処理対象物全体を均一にガス冷却する熱処理炉を実現する。例文帳に追加

To realize a heat-treatment furnace in which the whole body of heat-treatment objective material is uniformly subjected to gas-cooling by increasing the cooling effect to a specified site as necessary. - 特許庁

加熱速度を被過熱物全体で均一化することにより、加熱処理速度を早くするとともに、加熱処理品質を向上させること。例文帳に追加

To provide a steam heating apparatus quickening a heating process speed and improving heating process quality through equating a heating speed in the whole of an object to be heated. - 特許庁

各被処理基板に対して安定した加熱処理を行い、かつ、処理全体のスループットを向上させることができる基板熱処理方法および基板熱処理装置を提供する。例文帳に追加

To render a stable heat treatment for each to-be-treated substrate and enhance a throughput of the entire treatment. - 特許庁

ホットプレートに載置された基板に均一にガスを供給することにより、基板の熱処理を基板全体で均一に行うことを可能とする熱処理装置と熱処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide heat treatment equipment and a heat treatment method wherein heat treatment of a substrate is enabled uniformly in the whole substrate by supplying gas uniformly to the substrate mounted on a hot plate. - 特許庁