円高になるの英語

高さの異なる円筒形蓄電池の夫々に溝入れ加工を行うことができる円筒形蓄電池における溝入れ装置を提供する。例文帳に追加

To provide a grooving device, by which grooving can be carried out in each of cylindrical storage batteries with different heights, in a cylindrical battery. - 特許庁

一方、至近の円高傾向は、「我が国製造業による海外企業へのM&A」にとっては追い風となる。例文帳に追加

On the other hand, a stronger yen these days will have positive impacts on "Japanese manufacturers' M&A toward overseas firms." - 経済産業省

一口に「円高」と言っても、円が米ドルに対してのみ上昇している場合と、多くの他通貨に対して上昇している場合（「円の独歩高」の場合）とでは、日本の価格競争力、貿易収支等に与える影響が異なる。例文帳に追加

A rising yen's impacts on Japan's price competitiveness and its trade balance may differ depending on whether the yen rises against the dollar alone or many other currencies. - 経済産業省

円(価格)が上昇しているので, その結果日本からの輸入品は高くなるだろう.例文帳に追加

The yen is on the rise, with the consequence that imports from Japan will cost more.発音を聞く  - 研究社 新英和中辞典

この微動円筒型圧電素子２による微小領域の高速走査と、粗動用円筒型圧電素子１の高速走査領域の位置調整により、試料３を高速に、かつ高分解能に走査することが可能となる。例文帳に追加

Because of micro-area high-speed scanning by means of the cylindrical piezoelectric element 2 for fine movement and high-speed scanning area position adjustment by means of the cylindrical piezoelectric element 1 for coarse movement, the sample 3 can, be scanned at a high speed with high resolution. - 特許庁

裏蓋４１側のリアカバー３７を断面が円弧状となるように形成し、この円弧の高さを排出口４４の高さよりも高くなるように形成する。例文帳に追加

The rear cover 37 on the cover 41 side is formed so that its cross section may be circular-arc-shaped, and formed so that the height of this circular arc may be larger than the height of the ejection port 44. - 特許庁

被検知部２０は、回転体２２の回転円周上に沿ってその高さが連続的に異なるように回転体２２の回転円周上に配設される円弧形状のスロープである。例文帳に追加

A detecting object part 20 is a circular arc-shaped slope arranged on the rotational circumference of the rotary body 22 so that the height continuously becomes different along the rotational circumference of the rotary body 22. - 特許庁

複数の円筒形ターゲット材からなる長尺の円筒形スパッタリングターゲットを用いてスパッタ成膜した場合においても、成膜工程の製造歩留まりの高い円筒形スパッタリングターゲットを提供する。例文帳に追加

To provide a cylindrical sputtering target which has a high production yield of a filming step even when sputtering film formation is performed by using a long cylindrical sputtering target composed of a plurality of cylindrical target materials. - 特許庁