励起イオンの英語

イオントラップ１内にイオンを捕捉してプリカーサイオンを選別した後、被励起ガス導入部２３よりエチレンガスをイオントラップ１内に導入し、該ガス分子を振動励起させる所定波長（１０．６μｍ）のレーザ光を励起レーザ照射源２２から照射する。例文帳に追加

After selecting precursor ions by capturing the ions in an ion trap 1, ethylene gas is introduced into the ion trap 1 from an introducing part 23 for gas to be excited, and is irradiated with laser beam having a prescribed wavelength (10.6 μm) oscillating and exciting the gas molecules from an exciting laser irradiating source 22. - 特許庁

Ｔｍ（ツリウム）イオンの励起準位間吸収を無視し得る励起光の波長を使用し、光ファイバ増幅器の高効率化を図る。例文帳に追加

To operate an amplifier for optical fiber at high efficiency by using a wavelength of excitation light capable of disregarding absorption between the excitation levels of Tm(thulium) ion. - 特許庁

Ｈｅ−Ｃｄレーザでは強電界ドリフト層の浅い領域が励起され、アルゴンイオンレーザではより深い領域まで励起される。例文帳に追加

With the He-Cd laser, the shallow region of the strong field drift layer is excited, and with argon ion laser, a deeper region is excited. - 特許庁

励起光源に、イオンを基底準位からレーザ下準位又はそれより上方のエネルギレベルへ励起する第１の半導体レーザ励起光源と、第１励起光源とは異なる波長を有し、イオンをレーザ下準位からレーザ上準位へ励起する第２の半導体レーザ励起光源とを使用する。例文帳に追加

For the pumping light source, a first semiconductor laser pumping light source for exciting ions from a ground level up to a laser lower level or an energy level higher than the laser lower level, and a second semiconductor laser pumping light source which has wavelength different from the wavelength of the first pumping light source and excites ions from the laser lower level up to a laser upper level, are used. - 特許庁

これにより、所望のイオンは基本周波数での振動が励起されないのみならずうなり振動も励起されないのでイオントラップ領域１に残り、他の殆どのイオンは排出される。例文帳に追加

Consequently, vibration at the fundamental frequency is not excited, nor is beat vibration excited, so that the desired ion remains in the ion trap region 1, and most of other ion is discharged. - 特許庁

イオン照射での触媒励起によるＬＳＩ保護膜等の改質除去方法及び装置例文帳に追加

METHOD FOR REFORMING AND REMOVING LSI PROTECTIVE FILM OR THE LIKE BY CATALYST EXCITATION WITH ION IRRADIATION - 特許庁

水素ラジカルやフッ素ラジカルなどの非イオン性励起種でチャネルエッチ工程を実施する。例文帳に追加

The non-ionic excited species such as hydrogen radical and fluorine radical are used to perform a channel etch process. - 特許庁

これにレーザ光３３を照射すると、ドープされたＣｒイオンが励起される。例文帳に追加

When the deposited layers are irradiated with a laser beam 33, the dopant Cr ions are excited. - 特許庁