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反応性蒸着の英語
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英訳・英語 reactive evaporation; reactive deposition
「反応性蒸着」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 66件
反応性スパッタリング蒸着装置及び方法例文帳に追加
REACTIVE SPUTTERING DEPOSITION DEVICE AND METHOD - 特許庁
樹枝状構造の触媒4は、反応性スパッタ、反応性電子ビーム蒸着、イオンプレーティング等の真空蒸着法により形成する。例文帳に追加
The catalyst 4 with the dendritic structure is formed by a vacuum evaporation method like reactive sputter, reactive electron beam evaporation, or ion plating. - 特許庁
反応蒸着法において、反応性ガスとの反応を促進し、安定した組成を有する薄膜を製造する。例文帳に追加
To deposit a thin film having a stable composition by accelerating reaction with a reactive gas in a reaction vapor deposition method. - 特許庁
本発明は薄膜の蒸着のための反応性ガスとして酸素、オゾンのようにラジカル酸素を有していないアルコールの蒸気を使用するため、蒸着過程中に反応性ガスによる基板または蒸着面の直接的な酸化を抑制する。例文帳に追加
Since vapor not of oxygen or ozone having radical oxygen but of alcohol is used as the reactive gas for depositing a thin film, direct oxidation of a substrate or the deposition plane by the reactive gas is suppressed during the deposition process. - 特許庁
第1酸化物(X)からなる蒸着材と第2酸化物(Y)からなる蒸着材を用い、反応性プラズマ蒸着法によって同時に蒸着する共蒸着法で成膜した、2種類の酸化物から構成された水蒸気バリア膜であって、バリア膜の膜厚が30〜500nmの範囲内であるとき、θ×ΔB≧50(但し、50°≦θ≦125°、ΔB>0.4)を満たすことを特徴とする。例文帳に追加
The steam barrier film is composed of two types of oxides, and formed by a co-evaporation method in which an evaporation material composed of a first oxide (X) and an evaporation material composed of a second oxide (Y) are used and simultaneously evaporated by reactive plasma evaporation. - 特許庁
更に、本発明によれば、高周波励起プラズマ又は電子線酸化陽極プラズマを用いる活性化反応性蒸着法にて上記インジウム/酸化インジウム複合蒸着膜を形成する上記電磁波透過性金属蒸着ホログラム転写材の製造方法が提供される。例文帳に追加
Further, a method for manufacturing the electro-magnetic wave transmittable metalized hologram transfer material is provided wherein the indium/indium oxide composite vapor deposited film is formed by an activated reaction vapor deposition method using a high frequency excited plasma or an electron beam oxidation anodic plasma. - 特許庁
スパッタリングターゲットと基板との間に仕切り板を設けた反応性スパッタリング蒸着装置を提供する。例文帳に追加
To provide a reactive sputtering deposition device provided with a partition plate between a sputtering target and a substrate. - 特許庁
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「反応性蒸着」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 66件
本発明の方法は、蒸着法、反応性蒸着法、スパッタ法、反応性スパッタ法、化学気相堆積法から選ばれた手法により形成され、少なくともSi−H結合、もしくはN−H結合に由来する水素を含む乾式堆積膜に好適に使用できる。例文帳に追加
The method is suitably used for a dry deposited film including hydrogen derived from at least Si-H bond or N-H bond, which is formed by a means selected from among vapor deposition, reactive vapor deposition, sputtering, reactive sputtering, and chemical vapor deposition. - 特許庁
無機酸化物の斜方蒸着膜からなる垂直配向膜を用いた液晶表示素子に適用され、前記斜方蒸着膜の表面水酸基が、液晶性化合物で化学反応処理されていることを特徴とする。例文帳に追加
The method for treating the alignment layer is applied to the liquid crystal display element utilizing the vertical alignment layer composed of the oblique vapor deposition film of the inorganic oxide, and is characterized by having surface hydroxy groups of the oblique vapor deposition film having been subjected to chemical reaction treatment with a liquid crystalline compound. - 特許庁
正極活物質が、スパッタリング法、反応性蒸着法、真空蒸着法、化学蒸着法、溶射法、またはめっき法などにより、気相または液相から基板上に堆積して形成した少なくとも鉄を含む酸化物を主成分とする薄膜であることを特徴としている。例文帳に追加
The positive electrode active material is a thin membrane, formed of an oxide containing at least iron, as a main component, in vapor- or liquid-phase deposition on a substrate using a spattering, reactive deposition, vacuum deposition, chemical deposition, flame spraying or plating method. - 特許庁
選択的パターニング方法は、直流加熱蒸着法、イオンビーム蒸着法、反応性イオンビーム蒸着法、2極スパッタ法、マグネトロンスパッタ法、反応性スパッタ法、3極スパッタ法、イオンビームスパッタ法、イオンプレーティング法、ホローカソードビーム法、イオンビーム注入法及びプラズマCVD法などである。例文帳に追加
The selective patterning method includes a DC heating evaporation method, an ion beam evaporation method, a reactive ion beam evaporation method, a two-pole sputtering method, a magnetron sputtering method, a reactive sputtering method, a three-pole sputtering method, an ion beam sputtering method, an ion plating method, a hollow cathode beam method, an ion beam injection method and a plasma CVD method and the like. - 特許庁
また、活性エネルギー線照射により反応する反応性化合物および金属蒸着膜片を含有すること特徴とする無溶剤型被覆剤である。例文帳に追加
Further, the coating material is a solventless coating material containing a reactive compound capable of reacting by irradiation with active energy rays and deposited metal leaves. - 特許庁
反応管に吸着された塩素系の残留物を効果的に除去することにより、特にエッチング又は蒸着を安定して行うことができる、反応装置の信頼性改善方法を提供することにある。例文帳に追加
To provide a method for improving reliability of a reactor for stably performing, in particular, etching or vapor deposition by effectively removing chlorine-based residues adsorbed by a reaction tube. - 特許庁
反応性及び酸化物蒸着で用いられる10^-3トール程度の操作圧力におけるアークを低減し、フィラメントエミッタが酸素との反応により劣化しない電子ビーム銃を提供する。例文帳に追加
To provide an electron beam gun reducing an arc under an operation pressure of the order of 10-3 Torrs used for a reactive and oxide evaporation and having a filament emitter not deteriorated by a reaction with oxygen. - 特許庁
CVD反応チャンバ内で半導体基板上に炭素含有膜を形成する方法は、CVD反応チャンバを活性酸素種と接触させる工程と、半導体基板をCVD反応チャンバ内に移送する工程と、炭素含有膜を半導体基板上に蒸着する工程と、半導体基板をCVD反応チャンバ外へ移送する工程と、CVD反応チャンバを活性フッ素種と接触させる工程と、から成る。例文帳に追加
A method of forming a film, containing carbon on a semiconductor substrate in the CVD reaction chamber, comprises processes of: bringing the CVD reaction chamber into contact with the active oxygen species, transferring the semiconductor substrate into the CVD reaction chamber, evaporating the film containing carbon on the semiconductor substrate, transferring the semiconductor substrate out of the CVD reaction chamber, and bringing the CVD reaction chamber into contact with active fluorine species. - 特許庁
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