抵抗性プラズマの英語

制御された電気抵抗率を備えた耐プラズマ性セラミック例文帳に追加

PLASMA-PROOF CERAMICS EQUIPPED WITH CONTROLLED ELECTRIC RESISTIVITY - 特許庁

本発明は、プラズマ原子層堆積法（プラズマＡＬＤ法）の下地の絶縁膜の絶縁性能を低下させず、プラズマＡＬＤ法での膜形成により高精度の抵抗素子の形成を可能にする。例文帳に追加

To make it possible to form a high accurate resistance element through film formation by a plasma atomic layer deposition method (plasma ALD method) without reducing any insulating performance of an insulating film as a grounding in the plasma ALD method. - 特許庁

処理室内部にプラズマを発生させるプラズマ発生手段と、真空排気装置が接続され内部を減圧可能な処理室と、前記処理室内へのガス供給装置とから成るプラズマ処理装置において、プラズマと接する内壁を抵抗性材料で構成した。例文帳に追加

In a plasma processing apparatus including a unit for generating a plasma, a processing chamber whose interior can be reduced in pressure by a vacuum evacuation unit connected thereto, and a unit for supplying gas to the processing chamber; an inner wall contacting the plasma is made of a material having low resistance. - 特許庁

ハロゲン系腐食性ガスおよびそのプラズマに対する耐食性に優れ、かつ、体積抵抗率を容易に制御可能であり、半導体・液晶製造装置等、特に、静電チャック等のプラズマ処理装置用の部材として好適に使用することができる耐プラズマ性セラミックス部材を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma resistant ceramic member having excellent corrosion resistance against a halogen-based corrosive gas and plasma thereof and easily controllable electrical resistivity and being suitably used as a semiconductor, a liqud crystal manufacture apparatus or the like, particularly a member for a plasma processing apparatus such as an electrostatic chuck. - 特許庁

ハロゲン系腐食性ガス、プラズマ等に対する耐食性に優れ、かつ、体積抵抗率を容易に制御可能であり、半導体・液晶製造装置等、特に、静電チャック等のプラズマ処理装置用の部材として好適に使用することができる耐プラズマ性溶射部材を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma-resistant thermal-prayed member which has superior corrosion resistance to a corrosive halogenous gas and plasma, can easily control its volume resistivity, and can be suitably used in an apparatus for manufacturing a semi-conductor/liquid-crystal, and particularly as a member in a plasma treatment apparatus such as an electrostatic chuck. - 特許庁

ＣＶＤ法による成膜におけるプラズマクリーニング法で、生産性を高め、良好で安定した成膜分布、膜抵抗の再現性を実現する。例文帳に追加

To enhance productivity and to realize a good and stable deposition distribution and reproducibility of film resistance by a plasma cleaning method in the deposition by a CVD process. - 特許庁

半導体基板上に，低い比誘電率，高い耐熱性，耐吸湿性及び高い酸素プラズマ抵抗を有するシリコン重合体絶縁膜を形成するための方法がプラズマCVD装置に適用される。例文帳に追加

A method for forming a silicone polymer insulation film having a low dielectric constant, a high heat resistance, a high humidity resistance and a high oxygen plasma resistance on a semiconductor substrate 4 is applied to a plasma CVD apparatus. - 特許庁