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英訳・英語 minimal model
「最小モデル」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 146件
各集合について、以下のことが実行されて、一つまたは複数の注釈付けされたモデル特性関数が与えられる：各集合の各モデル・サンプルをモデル最小項として表し、モデル最小項の集合を与える；モデル最小項の集合からモデル特性関数を生成する。例文帳に追加
In each collection the following procedures are taken so that one or a plurality of annotated model characteristic functions are given: each model sample in each collection is indicated as a model minimum term and a collection of the model minimum term is given; the model characteristic function is generated out of the collection of the model minimum term. - 特許庁
モデル特性関数は、所与の最小項が前記モデル最小項の集合の要素であるかどうかを示す；モデル特性関数に注釈付けして、注釈付けされたモデル特性関数を与える。例文帳に追加
The model characteristic function indicates whether the given minimum term is an element of the collection of the model minimum terms or not; the model characteristic function is annotated and an annotated model characteristic function is given. - 特許庁
この場合、数学モデル部300の数学モデル特性を規定するモデル係数を、膜厚計測データｒと、数学モデル部300から出力されるモデル出力信号ｍとの偏差が最小となるように、調整している。例文帳に追加
In this case, the model coefficient for prescribing the arithmetic model characteristics of the arithmetic model part 300 is adjusted so that the deviation of the film thickness measuring data (r) with the model output signal (m) outputted from the arithmetic model part 300 becomes minimum. - 特許庁
較正された固有分解モデルを使用した、露光装置の組み合わせによる、モデルＯＰＣの偏差を予測し最小限に抑える方法例文帳に追加
METHOD FOR PREDICTING AND MINIMIZING DEVIATION OF MODEL OPC BY COMBINATION OF ALIGNERS USING CALIBRATED INHERENT DECOMPOSITION MODEL - 特許庁
装置展開手段２３は、予測モデルに使用する装置等を最小単位の部材にまで分解する。例文帳に追加
A device developing means 23 decomposes a device, etc., to be used for the predictive model to the members of a minimum unit. - 特許庁
バッチ最小二乗アルゴリズムを用いて、ノイゲバウアーモデルの適切なパラメータを推定できる。例文帳に追加
A batch least squares algorithm may be used to estimate the appropriate parameters of the Neugebauer model. - 特許庁
予測出力と実際の出力との差が最小となる制御対象モデルを最終的な制御対象モデルとして選択し、該選択した制御対象モデルを用いて制御を行う。例文帳に追加
The model to be controlled whose difference between the predicted output and the actual output is made minimum is selected as the final model to be controlled, and control is performed by using the selected model to be controlled. - 特許庁
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「最小モデル」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 146件
異なる視点から得られた物体の形状を表す部分３Ｄモデルを接合して物体の全周囲を表す３Ｄモデルを作成する際，隣接する部分３Ｄモデル間の位置ずれを最小にし，高品質な全周３Ｄモデルを作成する。例文帳に追加
To provide an entire 3D circumference model of high quality by minimizing displacement between adjoining partial 3D models at creation of a 3D model, showing whole circumference of a body by bonding and joining several partial 3D models representing circumference of the body obtained from different view points. - 特許庁
また、モデル生成方法において、親ノードの特徴量出現分布モデルとその子ノードの特徴量出現分布モデルとの距離を変分し近似した値が最小となるように、親ノードの特徴量出現分布モデルを生成する。例文帳に追加
Also, the model generation method generates the feature quantity appearance distribution model of the parent node such that the value obtained by performing variation and approximation on a distance between the feature quantity appearance distribution model of the parent node and the feature quantity appearance distribution model of the child node thereof becomes minimum. - 特許庁
そのアフィンカメラモデルは実際の撮影カメラによる画像に対して最小誤差を与えるように精密に調節されている。例文帳に追加
The affine camera model is precisely adjusted to provide a minimum error to the image from an actual imaging camera. - 特許庁
動的輪郭モデルについて輪郭エネルギを最小にする際、画像の勾配の強さおよび方向（λ）双方を分析する。例文帳に追加
When minimizing the contour energy concerning a dynamic contour model, both a strength and a direction (λ) of the gradient of the image are analyzed. - 特許庁
最小寸法の計算で用いるレジスト・モデルの較正を改善する方法、プログラム製品、及び装置例文帳に追加
METHOD, PROGRAM PRODUCT, AND APPARATUS FOR IMPROVING CALIBRATION OF RESIST MODEL USED IN CRITICAL DIMENSION CALCULATION - 特許庁
圧力オフセットも除去され、インピーダンスを判定するために線形予測モデルとともに最小二乗評価方式が採用される。例文帳に追加
Pressure offset is also removed and a least squares estimation approach is used with a linear prediction model to determine impedance. - 特許庁
既に存在する基幹生産ラインをモデルとした新規生産ラインの検査装置の台数を必要最小限にする。例文帳に追加
To minimize the number of inspection devices in a new production line which models on an existing basic production line. - 特許庁
半導体チップ全体のパターン精度の検証を物理モデルに従って高精度に行うとともに、計算量を最小限に抑える。例文帳に追加
To minimize a calculation quantity while verifying the pattern precision of the whole semiconductor chip with high precision according to a physical model. - 特許庁
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minimal model
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