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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > JST科学技術用語日英対訳辞書 > 活性化反応性蒸着の英語・英訳 

活性化反応性蒸着の英語

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英訳・英語 activated reactive evaporation


JST科学技術用語日英対訳辞書での「活性化反応性蒸着」の英訳

活性化反応性蒸着


「活性化反応性蒸着」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 6



例文

更に、本発明によれば、高周波励起プラズマ又は電子線酸陽極プラズマを用いる活性化反応性蒸着法にて上記インジウム/酸インジウム複合蒸着膜を形成する上記電磁波透過金属蒸着ホログラム転写材の製造方法が提供される。例文帳に追加

Further, a method for manufacturing the electro-magnetic wave transmittable metalized hologram transfer material is provided wherein the indium/indium oxide composite vapor deposited film is formed by an activated reaction vapor deposition method using a high frequency excited plasma or an electron beam oxidation anodic plasma. - 特許庁

また、活性エネルギー線照射により反応する反応合物および金属蒸着膜片を含有すること特徴とする無溶剤型被覆剤である。例文帳に追加

Further, the coating material is a solventless coating material containing a reactive compound capable of reacting by irradiation with active energy rays and deposited metal leaves. - 特許庁

蒸着反応器内で、活性窒素原子、特に誘電体障壁放電により発生させた活性窒素原子およびIII族金属の有機金属合物1種以上を、従来のMOCVD法におけるよりも低温の700℃〜1,000℃に加熱した基板上に蒸着させる製造方法である。例文帳に追加

This method for producing a III group metal nitride thin film comprises carrying out chemical vapor deposition of activated nitrogen atom, especially activated nitrogen atom generated by dielectric barrier discharge and one or more kinds of organometallic compounds of III group metals on a substrate heated to 700°C to 1,000 which is a temperature lower than that in conventional MOCVS method. - 特許庁

絶縁膜は、ソースガスを与えるようシリコン含有炭水素合物を気し、ソースガス並びに不活性ガス及び酸ガスのような添加ガスから成る反応ガスをプラズマCVD装置の反応空間へ導入し、−50℃〜100℃の温度でプラズマ重合反応によりシロキサン重合体膜を蒸着することによって、半導体基板上に形成される。例文帳に追加

The insulation film is formed on a semiconductor substrate by vaporizing a silicon-containing hydrocarbon compound to provide a source gas, introducing a reaction gas composed of the source gas and an additive gas such as an inert gas and oxidizing gas to a reaction space of a plasma CVD apparatus, and depositing a siloxan polymer film by plasma polymerization at a temperature of -50-100°C. - 特許庁

原子層蒸着法(ALD)は最少限一つのアルコキシド基を含み、基板表面上に学的に吸着されて水酸基を含まない活性された酸剤と反応して優れているステップカバーレージおよび向上された漏洩電流特を示す誘電物質を形成する第1反応物を利用する。例文帳に追加

In the atomic layer deposition method(ALD), a first reaction product is utilized, which contains at least one alkoxide group and is adsorbed on a substrate chemically and reacts with an activated oxidizing agent without a hydroxide and forms a dielectric substance showing an excellent coverage and improved leakage current characteristics. - 特許庁

例文

本発明の燃料電池用改質器は、流路チャンネルに微細気孔が形成された反応基板を含んでおり、活性比表面積が大きく、蒸着法で触媒層を形成させるので、改質器を小型することができるという長所がある。例文帳に追加

Since the reformer for the fuel cell includes the reaction board in which the minute air pores are formed in the flow passage channel, and has the large specific surface area of the activity, and the catalyst layers are formed by a vapor deposition method, the reformer has an advantage that it is down-sized. - 特許庁

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日英・英日専門用語辞書での「活性化反応性蒸着」の英訳

活性化反応性蒸着


クロスランゲージ 37分野専門語辞書での「活性化反応性蒸着」の英訳

活性化反応性蒸着


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