液浸計数装置の英語

制御装置は、複数のエンコーダヘッドのうち、液浸領域外にあるエンコーダヘッド６０Ａ，６０Ｂ，６０Ｄを用いて、ＸＹ平面内における移動テーブルの位置情報を計測する。例文帳に追加

A controller uses encoder heads 60A, 60B, and 60D outside the immersion region among the plurality of encoder heads to measure position information on the moving table in an XY plane. - 特許庁

液浸露光装置は、基板チャックと、基板取り囲み部材４１とを有し、露光領域及び計測領域を含む領域内で移動可能な複数のステージ４５と、複数のステージ４５の駆動を制御するステージ制御部とを備える。例文帳に追加

The liquid-immersion exposure apparatus has a plurality of stages 45 each having a substrate chuck and a substrate surrounding member 41 and movable in a region including an exposure region and a measurement region, and a stage control section for controlling the driving of the stages 45. - 特許庁

半導体製造装置は、チャンバ１０内に設けられ、ウェハ２０上に塗布されたレジスト膜に設計パターンを露光する露光部３０と、露光時にウェハ２０の上に露光光の開口数値を上げる液浸リソグラフィ用の液体２３を再利用しながら供給する液体リサイクル部４０とから構成されている。例文帳に追加

A semiconductor fabrication apparatus comprises an exposure unit 30, provided within a chamber 10 for exposing a design pattern on a resist film applied on a wafer 20; and a liquid recycle unit 40 for supplying a liquid 23 for use in immersion lithography that raises the numerical aperture of exposure light during exposure to the wafer 20, while recycling the liquid 23. - 特許庁