状態平面解析の英語

ここで、有限要素法解析を実行するステップＳ２は、解析モデルの切断面が平面を保持した状態で解析モデルをプーリの曲率まで屈曲させるステップＳ２ａと、解析モデルの切断面が平面を保持した状態で解析モデルをプーリに押し付けてトラス要素に張力を発生させるステップＳ２ｂとを含む。例文帳に追加

The step S2 for performing the finite-element analysis includes a step S2a for bending the analytical model down to the curvature of a pulley while making the cut surface of the analytical model maintain the plane, and a step S2b for pressing the analytical model against the pulley to produce tension in the truss element while making the cut surface of the model maintain the plane. - 特許庁

ＣＳＰなどの平面実装型ＬＳＩにおいて、解析用観察機器を用いたときに、ＬＳＩの表面が完全に露出した状態で電気的解析をすることができる。例文帳に追加

To be analyzable electrically at situations the surface of LSI is fully exposed when analytical observing equipment is used in a surface mounted type LSI such as CSP. - 特許庁

外表面・内表面データ分別部１７は、シミュレーションした結果を表す解析データから、前記平面要素の状態を表す外表面データを抽出する。例文帳に追加

An outer surface/inner surface data division part 17 extracts outer surface data representing the states of plane elements from analysis data showing simulation results. - 特許庁

本発明に係る振動解析方法は、人工的な境界条件を指定する煩雑さを回避するために全体構造を解析することを前提とし、板構造物モデルを直交座標系へ配置した状態で、対称性を有する構造物モデルを対称となる軸または平面で２つの部分に分割し、各々の部分を第１構造物モデルと第２構造物モデルとして有限要素に分割する。例文帳に追加

In the vibration analysis method, it is premised that an entire construct is analyzed in order to avoid the complexity of designating an artificial boundary condition, and the construct model having symmetry is divided into two parts by an axis or a plane of symmetry in a state of being arranged in a rectangular coordinate system, and respective parts as a first construct model and a second construct model are divided into finite elements. - 特許庁

制御装置７４は、液晶パネル７１を全面発光した状態でシャーレ２の平面画像を取得して画像解析することで、シャーレ２の分離壁１３の延在方向を検出した後、検出した分離壁１３の延在方向に合わせた縞模様を液晶パネル７１に表示して、寒天３表面４での凹凸を検査する。例文帳に追加

A control device 74 detects the direction of extension of the separation wall 13 of the laboratory dish 2, by acquiring a plane image of the laboratory dish 2 in a state that the whole surface of the panel 71 emits light and analysing the image, displays afterwards on the panel 71 the stripe pattern adjusted to the detected extension direction of the separation wall 13, and inspects unevenness in the surface 4 of an agar 3. - 特許庁