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露光不足の英語
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英訳・英語 underexposure
「露光不足」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 87件
コード化露光処理における露光量の不足とノイズの増加を抑える。例文帳に追加
To suppress shortage of exposure and increase in noise in encoding exposure processing. - 特許庁
露光不足補償機能を備えた画像判別センサ例文帳に追加
IMAGE DISTINCTION SENSOR WITH UNDEREXPOSURE COMPENSATION FUNCTION - 特許庁
露光過多や露光不足の写真フィルムからでも高コントラスト画像を容易にかつ確実に得る。例文帳に追加
To easily and surely obtain high contrast images even from an exposure excessive or exposure insufficient photo film. - 特許庁
このとき、溝25の内部のフォトレジスト膜30は、露光量が不足するので露光されない。例文帳に追加
Here, a photoresist film 30 inside the channel 25 will not be exposed due to lack of exposure amount. - 特許庁
監視に用いられる車両の撮像画像の露光不足を防止する。例文帳に追加
To prevent underexposure of a photographed image of a vehicle used for monitoring. - 特許庁
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「露光不足」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 87件
また露光時間が短い場合には露光不足になることが多いので、そのような露光不足となった撮像画像を、ゲイン調整や開口度調整などによって補正する機能をさらに備える。例文帳に追加
Since it often becomes exposure shortage when the exposure time is short, the imaging apparatus is further provided with functions for collecting such a photographed image which becomes the exposure shortage by gain adjustment and aperture adjustment, etc. - 特許庁
プロキシミティ方式を用いた基板の露光において、マスクへ照射される光の一部を遮断して露光領域を制限する際、露光領域の境界付近で露光不足や二重露光が発生するのを防止する。例文帳に追加
To prevent occurrence of underexposure and double exposure near a boundary of an exposure region when a part of light radiated to a mask is blocked to restrict the exposure region in the exposure of a substrate using a proximity system. - 特許庁
プロキシミティ方式を用いた基板の露光において、マスクへ照射される光の一部を遮断して露光領域を制限する際、露光領域の境界付近で露光不足や二重露光が発生するのを防止する。例文帳に追加
To prevent insufficient exposure light or duplicated exposure near the boundary of an exposure region when the light irradiating a mask is partly cut to restrict the exposure area in the exposure of a substrate by using a proximity method. - 特許庁
処理装置は、露光不足といった、品質基準を満たさないフレームを削除する。例文帳に追加
The processing apparatus discards frames that do not meet a quality criterion such as under-exposed frames. - 特許庁
コンタクトやビアを形成する際の、露光時の光量不足による開口不良を抑制する。例文帳に追加
To prevent defective opening caused by insufficient light amount when performing exposure for forming a contact or a via. - 特許庁
例えば、プロセス・ウィンドウの境界は、露光不足条件および露光過剰条件に対応する形状制限によって定義し得る。例文帳に追加
For example, boundaries of the process window may be defined by shape limits corresponding to underexposed and overexposed conditions. - 特許庁
露光条件が最適化される領域の配線と異なる方向の配線を必要とする領域の露光マージン不足を回避する。例文帳に追加
To avoid exposure margin shortage of a region requiring a wire in the direction different from that of a wire in a region with an exposure condition optimized. - 特許庁
露光不足ラチチュードが改良されると共に望ましい露光過多プリント濃度が得られる高感度写真フィルムを提供すること。例文帳に追加
To provide a high sensitivity photographic film which ensures the desired overexposure print density as well as an improved underexposure latitude. - 特許庁
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