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英訳・英語 including；Include. . .、include
「･･･を含む」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 93件
Cr＋3Mo＋6Ni≧23 ・・・（A) Al／Nb≧10 ・・・（B) Feの一部にかえてCu、V、Ca、Mg、Bのいずれか1種または２種以上を含むことが望ましい。例文帳に追加
The ferritic stainless steel preferably includes one or more elements among Cu, V, Ca, Mg and B in place of a part of Fe. - 特許庁
パスサーチャは、相関器のセット（４２−１、４２−２、・・・４２−Ｐ）を含む。例文帳に追加
The path searcher comprises a set of correlators (42-1, 42-2, ... 42-P). - 特許庁
Δ＝（ｎ_ｃｏｒｅ^２−ｎ_ｃｌａｄ^２）／ｎ_ｃｏｒｅ^２ ・・・・・・ （２） ただし、ｎ_ｃｏｒｅは、前記曲がり利得部を含む前記積層構造体の垂直断面の有効屈折率であり、ｎ_ｃｌａｄは、前記ガイド部を含む前記積層構造体の垂直断面の有効屈折率である。例文帳に追加
In the formula (2), n_core is an effective refractive index of a vertical cross section of a laminate structure including a bent gain region, and n_clad is an effective refractive index of a vertical cross section of the laminate structure including the guide. - 特許庁
セクタＳ０，Ｓ１，・・・の各々は、グルーブとランドとを径方向に交互に含む。例文帳に追加
Each of these sectors S0, S1,... contains a groove and a land alternately in the radial direction. - 特許庁
ゾーンＺｏｎｅ０〜ＺｏｎｅＮの各々は、周方向に配置されたセクタＳ０，Ｓ１，・・・を含む。例文帳に追加
Each of these zones Zone0-ZoneN contains sectors S0, S1,... arranged in the circumferential direction. - 特許庁
・・・・・ 構造式１ （式中、Ｒ_1、Ｒ_2、Ｒ_3は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基のいずれかである） 〔３〕前記〔１〕または〔２〕記載の積層体と、熱可塑性樹脂（但し液晶性ポリマーを除く）フィルムとを含む積層体。例文帳に追加
[3] The laminate includes the laminate described in [1] or [2] and a film comprising a thermoplastic resin (excepting the liquid crystal polymer). - 特許庁
通常、開放クレームは、移行句「・・・を含む」(containing, including)、「本質的に・・・からなる」(consisting essentially of)を使用する。開放クレームは、請求項で特定されていない追加要素又は方法手順を含むものと解釈される。例文帳に追加
Usually, an open claim should use the transition phrase of "containing", "including", or "consisting essentially of …", which shall be interpreted as including additional components or process steps non-recited in the claim is permitted.発音を聞く - 特許庁
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「･･･を含む」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 93件
上記シンク機器情報は、シンク機器２ａを含む複数のシンク機器２ａ，２ｂ，・・・を識別するための識別情報と、各シンク機器２ａ，２ｂ，・・・の無線接続状態を示す状態情報とを関連付けた情報である。例文帳に追加
The sink device information is formed by associating identification information for identifying a plurality of sink devices 2a, 2b, and the like including the sink device 2a with state information indicating the radio connection state of the sink devices 2a, 2b, and the like. - 特許庁
中央装置４は、各交差点がサービス交差点か否かを識別するための情報等を含むサービス交差点情報を、複数のサービス交通信号機３Ａ、３Ａ、・・・、及び複数の交通信号機３Ｂ、３Ｂ、・・・に送信する。例文帳に追加
A central apparatus 4 sends service intersection information including information identifying whether or not each intersection is a service intersection to a plurality of service traffic signals 3A and a plurality of traffic signals 3B. - 特許庁
具体的には、ＵＳＰＴＯは、請求項中の『・・・度に・・・回転数を低下させて』との表現について、回転数を一度だけ低下させることも含むと解釈した。例文帳に追加
Specifically, the USPTO interprets the expression “reducing the rotational speed - ..each time” in the claim to also mean the reduction of the rotational speed only one time.発音を聞く - 特許庁
再生番組選択画像６０は、題名一覧画像６１、カーソル画像６２、先頭文字選択用の枠画像６３−１、６３−２、・・・、次文字選択用の枠画像６４−１、６４−２、・・・を含む。例文帳に追加
A reproduction program selecting image 60 includes a title list image 61, a cursor image 62, frame images 63-1, 63-2,... for selecting an initial character, and frame images 64-1, 64-2,... for selecting a next character. - 特許庁
冷媒回路は、熱源ユニット２ａ〜２ｃと、冷媒連絡配管４，５と、膨張機構２９ａ〜２９ｃ，３１ａ，３１ｂ，・・・と、利用ユニット３ａ，３ｂ，・・・とを含む回路である。例文帳に追加
The refrigerant circuit is a circuit including heat source units 2a-2c, refrigerant communication piping 4, 5, heat source-side expansion mechanisms 29a-29c, use-side expansion valves 31a, 31b, and use units 3a, 3b. - 特許庁
冷媒回路は、熱源ユニット２ａ〜２ｃと、冷媒連絡配管４，５と、膨張機構３１ａ，３１ｂ，・・・と、利用ユニット２９ａ〜２９ｃ，３ａ，３ｂ，・・・とを含む回路である。例文帳に追加
The refrigerant circuit is a circuit including heat source units 2a-2c, refrigerant communication piping 4, 5, heat source-side expansion valves 31a, 31b, and use-side expansion valves 29a-29c, use units 3a, 3b. - 特許庁
Ａ剤・・・アルミニウムイオンおよび炭酸イオンを含む溶液、 Ｂ剤・・・マグネシウム塩 前記Ａ剤の添加量は、アルミニウム含有量として１０〜１０００ｐｐｍであることが好ましい。例文帳に追加
The addition amount of the agent A is desirable to be 10-1000 m ppm in terms of aluminum content. - 特許庁
本発明の絶縁膜の形成方法は、基材の上にポリシロキサン系絶縁膜を形成する工程と、前記ポリシロキサン系絶縁膜の上に、ポリカルボシラン系絶縁膜を形成する工程と、 前記ポリカルボシラン系絶縁膜の上に、有機系絶縁膜を形成する工程と、を含む絶縁膜の形成方法であって、 前記ポリシロキサン系絶縁膜は、 下記一般式（１）〜（３）で表される化合物の群から選ばれた少なくとも１種のシラン化合物を加水分解縮合して形成され、 Ｒ_aＳｉ（ＯＲ^1）_4-a ・・・・・（１）（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、Ｒ^1は１価の有機基、ａは１〜２の整数を示す。） Ｓｉ（ＯＲ^2）_4 ・・・・・（２）・・・（式中、Ｒ^2は１価の有機基を示す。） Ｒ^3_b（Ｒ^4Ｏ）_3-bＳｉ−（Ｒ^7）_d−Ｓｉ（ＯＲ^5）_3-cＲ^6_c ・・・（３）〔式中、Ｒ^3〜Ｒ^6は同一または異なり、それぞれ１価の有機基、ｂおよびｃは同一または異なり、０〜２の数を示し、Ｒ^7は酸素原子、フェニレン基または−（ＣＨ_２）_ｍ−で表される基（ここで、ｍは１〜６の整数である）、ｄは０または１を示す。例文帳に追加
The method for forming the insulating film contains steps of forming a polysiloxane series insulating film of a substrate, forming a polycarbosilane series insulating film on the polysiloxane series insulating film, and forming an organic series insulating film on the polycarbosilane series insulating film. - 特許庁
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