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ALIGN TO THE MARKとは 意味・読み方・使い方
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「ALIGN TO THE MARK」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 25件
At the time, an align mark or an align-shape part is formed on the dielectric layer, an align mark or an align-shape part corresponding to above the align mark or the align-shape part is formed at least on one substrate among the first substrate or the second substrate.例文帳に追加
この時、前記誘電層にアラインマークまたはアライン形状部が形成され、前記第1基板及び第2基板のうちの少なくとも一つの基板に前記アラインマークまたは前記アライン形状部に対応するアラインマークまたはアライン形状部が形成される。 - 特許庁
Operation to align the mark part 130 with the alignment part 162 is performed easily and accurately.例文帳に追加
位置合わせ部162にマーク部130を合わせる作業を、容易に且つ正確に行なうことができる。 - 特許庁
To align a pattern where an aligning mark or such a land that can be a substitute for the aligning mark does not exist.例文帳に追加
位置決めマークあるいは位置決めマークの代わりとなり得るようなランドが存在しないパターンの位置合わせを行う。 - 特許庁
To align an object to be inspected with high accuracy be reducing the position detecting error caused by the asymmetry of a diffraction grating- like mark.例文帳に追加
回折格子状マークの非対称性による位置検出誤差を低減し、被検物の位置合わせを高精度に行う。 - 特許庁
To align while absorbing the local distortion of an inspecting workpiece, even when a pattern which serves as a positioning mark is not present.例文帳に追加
位置決めマークとなり得るようなパターンが存在しない場合でも、検査ワークの局所的な歪みを吸収しつつ位置合わせを行う。 - 特許庁
In the alignment mark Sm composed of a mask mark Mm given to a mask M having a specified pattern and of a work mark Wm given to a substrate W so as to align the mask and the substrate, the work mark is composed of a first reference mark Km_1 formed as penetrating the substrate and of a second reference mark Km_2 formed near the first reference mark and not penetrating the substrate.例文帳に追加
所定のパターンを備えるマスクMに設けたマスクマークMmと、基板Wに設けたワークマークWmとにより前記マスクおよび前記基板の整合作業を行う整合マークSmにおいて、前記ワークマークは、その基板に貫通して形成した第一基準マークKm_1と、この第一基準マークの近傍で前記基板に非貫通に形成した第二基準マークKm_2とから構成される整合マークとした。 - 特許庁
A sufficient contrast is secured between the alignment mark 1 and its surrounding environment, so that inspection and measurement facilities easily recognize the alignment mark 1 as a unique mark and then an error in alignment mark recognition is prevented to accurately align the wafer.例文帳に追加
アライメントマーク1とその周囲環境との間において十分なコントラストを確保できるため、検査・測定設備がアライメントマーク1をユニークマークとして容易に認識することができるので、アライメントマーク認識不良を防止してウェハのアライメントを正確に実施することができる。 - 特許庁
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「ALIGN TO THE MARK」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 25件
To inexpensively form a mark showing the position of a probe to a cantilever with high precision, without laboring, and to accurately align the leading end position of the probe with the target measuring start position of a sample using the mark.例文帳に追加
探針の位置を示すマークを、手間をかけずに安価且つ高精度にカンチレバーに形成すると共に、該マークを利用して探針の先端位置を試料の狙った測定開始位置に対して正確に位置合わせすること。 - 特許庁
A mark for indicating mounting positions and directions of terminals of a plurality of circuit components on the circuit substrate is formed to align the direction of the circuit component indicated by the mark, so as to coincide with the solder dipping direction.例文帳に追加
回路基板上の複数の回路部品のマウント位置と回路部品の端子の方向とを表示するマークを設けて、マークによって表示される当該回路部品の当該方向を半田浸漬方向に合致するように揃える。 - 特許庁
At this time, the aligning mark is detected with rough accuracy and only at the time of detecting large positional deviation over 20 nm, aligning mark is detected accurately to align the reticule and the wafer, based on the result.例文帳に追加
その際、位置合わせマークの検出を粗い精度で行い、20nmを超える大きな位置ずれが検出されたときにのみ、位置合わせマークの検出を高精度で行って、その結果に基づいてレチクルとウェハーの位置合わせを行う。 - 特許庁
To precisely align a relative position between an object to be transferred with a mark or pattern and a stamper without forming any alignment marks on the object to be transferred with a mark or pattern in an imprinting method and apparatus.例文帳に追加
インプリント方法及び装置において、被転写体にアライメントパターンを設けることなく、被転写体とスタンパとの相対位置を高精度に合わせることを可能にする。 - 特許庁
A mark is also provided on a surface of the stem not opposing to the electrode to align the electrode with the stem, thereby fabricating the electron gun by integrating the stem with the electrode.例文帳に追加
また、ステムにおいて電極と対向しない面にマークを設けて、電極とステムの位置合わせを行い、ステムと電極を一体化して電子銃を製造することにした。 - 特許庁
To eliminate the need of retreat of an image acquisition device during exposure to shorten the tact time by acquiring an image of an alignment mark to align a mask and a substrate without covering a part of a pattern of the mask with the image acquisition device.例文帳に追加
マスクのパターンの一部を画像取得装置で覆うことなく、アライメントマークの画像を取得して、マスクと基板との位置合わせを行い、露光時の画像取得装置の退避を不要にして、タクトタイムを短縮する。 - 特許庁
To accurately align a mask with a substrate by supporting the substrate so as not contact with the mask without applying a tension to it, and by precisely detecting a position of a mark for detecting the positions of the substrate and the mask.例文帳に追加
基板にテンションをかけずにマスクと非接触に支持して、基板とマスクの位置検出用マークの位置を正確に検出して、高精度にアライメントすること。 - 特許庁
A write DMAC detects the restart mark, inserts a padding in order to align the words of data in the succeeding strip to be successively outputted and transfers it to a memory.例文帳に追加
ライトDMACはこのリスタートマークを検出すると、後続して出力される次のストリップのデータをワードアラインするため、パディングを挿入し、それをメモリに転送する。 - 特許庁
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