Bridge パターンの英語

To provide a printed circuit board which prevents certainly a bridge between conductive patterns from being formed.例文帳に追加

導電パターン間のブリッジ形成を確実に防止できるプリント基板を提供する。 - 特許庁

Or a resistance layer 15a may be formed at a cut section 31 of the wiring pattern 30 in a bridge- shape.例文帳に追加

また配線パターン３０の切断部３１にブリッジ状に抵抗層１５ａを形成してもよい。 - 特許庁

When solder paste of a continued straight pattern is printed on the narrow pattern and allowed to reflow, melted solder is allowed to flow in a pattern direction of large heat capacity, so that an inexpensive solder mounting board having no solder bridge can be provided.例文帳に追加

狭いパターン部に連続した直線パターンのはんだペーストを印刷し、リフローすることで、はんだが溶けるとき熱容量の大きいパターン方向へ流れるため、はんだブリッジのない安価なはんだ搭載基板を提供できる。 - 特許庁

To provide a test pattern preparation device, a test pattern preparation method, a failure detection rate calculation device, and a failure detection rate calculation method for preparing a test pattern for highly precisely detecting the bridge failure of an LSI.例文帳に追加

ＬＳＩのブリッジ故障を高精度に検出するテストパターンを作成できるテストパターン作成装置、テストパターン作成方法、故障検出率算出装置故障検出率算出方法を提供する。 - 特許庁

The method includes steps of: consecutively disposing a phase shift layer pattern and a light shielding layer pattern over a transparent substrate to form a photomask and forming a resist layer over the entire surface of the photomask having a defective pattern causing a bridge between neighboring portions of the phase shift layer pattern; exposing the defective pattern by etching the resist layer; and removing the exposed defective pattern.例文帳に追加

透明基板上に位相反転膜パターン及び光遮蔽膜パターンを順次に配置してフォトマスクを形成し、隣接する位相反転膜パターンをブリッジさせる不良パターンの生じたフォトマスク全面にレジスト膜を形成する段階と、レジスト膜をエッチングして不良パターンを露出させる段階と、露出した不良パターンを除去する段階と、を含む構成とした。 - 特許庁

By this applied voltage, a current is made to flow through a bridge formed between the patterns 3 and 4 and a part, which is discolored by the current in the part of this bridge, of the paper 2 is decided a defective part.例文帳に追加

この印加された電圧によって、正極側電源側導体パターン３と接地側導体パターン４との間に形成されたブリッジに通電し、この部分の電流で変色した感熱紙２の部分を不良部分と判定する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method and a chemically amplified negative resist composition exhibiting a large depth of focus (DOF) and small line width roughness (LWR) and being capable of forming a pattern having a superior pattern shape and reduced bridge defects.例文帳に追加

フォーカス余裕度（ＤＯＦ）が広く、線幅バラツキ（ＬＷＲ）が小さく、パターン形状に優れ、更にはブリッジ欠陥が低減されたパターンを形成できるパターン形成方法及び化学増幅型ネガ型レジスト組成物を提供することを課題としている。 - 特許庁

As a result, generation of a bridge phenomenon between the first photoresist pattern 28 and the fall-down phenomenon of the first photoresist pattern 28 can be prevented.例文帳に追加

これにより、第１フォトレジストパターン２８の間のブリッジ現象及び第１フォトレジストパターン２８の倒れ現象を防止することができる。 - 特許庁