C nucleiとは 意味・読み方・使い方

The rutile type titanium dioxide fine grains are produced by neutralizing the water soluble salt of cobalt in a solvent containing water-containing titanium oxide having rutile nuclei and also having a specific surface area of ≥150 m^2/g, fractionating the same, and next performing firing at 300 to 1,000°C.例文帳に追加

このルチル型二酸化チタン微粒子は、ルチル核を有し、かつ、１５０ｍ^２/ｇ以上の比表面積を有する含水酸化チタンを含む溶媒中でコバルトの水溶性塩を中和し、分別し、次いで、３００〜１０００℃の温度で焼成して製造する。 - 特許庁

The silicon substrate is then heat treated at 1000°C-1400°C for an appropriate time to produce an ion implantation transition layer 3 including a plurality of voids 6, 6,... which are employed as heterogeneous nuclei of SiO2 phase in the formation of a buried oxide layer 4 and a surface silicon layer 5.例文帳に追加

このシリコン基板を、１０００℃以上１４００℃以下の温度で適宜時間だけ熱処理することによって、複数のボイド６，６，…を含むイオン注入遷移層３を生成し、ボイド６，６，…をＳｉＯ_2 相の不均質核として埋め込み酸化層４及び表面シリコン層５を形成する。 - 特許庁

The colored curable composition includes: pigment dispersion liquid having (a-1) a pigment, (a-2) a compound having a pigment mother nuclei structure and an amino group in a molecule, and (a-3) a resin having an acid group and a polymerizable group; (B) an oxime ester initiator, and (C) a polymerizable compound.例文帳に追加

（ａ−１）顔料、（ａ−２）分子内に顔料母核構造とアミノ基とを有する化合物、および（ａ−３）酸基と重合性基を有する樹脂、を含む顔料分散液と、（Ｂ）オキシムエステル系開始剤と、（Ｃ）重合性化合物と、を含有する着色硬化性組成物。 - 特許庁

The resin composition contains as essential components (A) an oil-modified alkyd resin obtained using an unsaturated aliphatic acid or an unsaturated aliphatic acid ester, (B) a monomer having a (meth)acryloyl group, and (C) a phenol compound having one or two phenol nuclei and containing or not containing OH, an alkoxy group, or a hydrocarbon group.例文帳に追加

不飽和脂肪酸又は不飽和脂肪酸エステルを用いて得られる油変性アルキド樹脂（Ａ）と、（メタ）アクリロイル基を有する単量体（Ｂ）と、フェノール核を１つ又は２つ有し、さらに、ＯＨ、アルコキシ基、又は炭化水素基を含有、又は含有しないフェノール化合物（Ｃ）とを必須成分として含有する。 - 特許庁

This production method of a semiconductor base material comprises: forming crystal nucleus of SiGe or Ge on a base material, such as an amorphous, a polycrystal and a metal using a heat CVD method which is performed at a temperature of 550°C or lower using a germanium halide and silanes as raw materials; and forming a Si polycrystal film on the crystal nuclei by a vapor phase deposition method.例文帳に追加

５５０℃以下の温度でハロゲン化ゲルマニウムとシラン類を原料とする熱ＣＶＤ法を用いて、非晶質、多結晶あるいは金属などの基材上にＳｉＧｅあるいはＧｅの結晶核を形成し、該結晶核上に気相堆積法でＳｉ多結晶膜を形成する半導体基材の製造方法により、上記課題を解決する。 - 特許庁

In the method for producing a silver halide emulsion, in a process for forming silver halide grains in which at least part of nuclei forming and growing steps is carried out by forming silver halide grains in an external mixer and supplying the silver halide grains, the temperature of the grain formation for supply in the external mixer is ≤10°C.例文帳に追加

外部混合器においてハロゲン化銀粒子を形成し、該ハロゲン化銀粒子を供給することにより、核形成および成長の工程のうち少なくとも一部を行うハロゲン化銀粒子の形成方法であって、該外部混合器での供給用粒子形成温度が１０℃以下であるハロゲン化銀乳剤の製造方法。 - 特許庁

The light transmission layer of the optical disk is formed by using the cationically polymerizable photosensitive composition containing (a) a compound having at least two epoxy groups in one molecule, (b) a polynuclear phenol consisting of three or more nuclei each of which does not have a t-butyl group at the ortho-position, (c) a vinyl ether compound having a hydroxyl group and (d) an energy ray sensitive cationic polymerization initiator.例文帳に追加

（ａ）１分子中に少なくとも２個以上のエポキシ基を有する化合物、（ｂ）オルト位にｔ−ブチル基を有しない３核以上から成る多核フェノール、（ｃ）水酸基を有するビニルエーテル化合物、および（ｄ）エネルギー線感受性カチオン重合開始剤を含有することを特徴とするカチオン重合性感光性組成物を用いて、光ディスクの光透過層を形成する。 - 特許庁