CL-17とは 意味・読み方・使い方

The output shaft 15 is installed at a place away from a center line CL of a cylinder 12 and reciprocating linear motion of the piston 13 is converted into rotational motion of the output shaft 15 by the movement direction conversion structure 17.例文帳に追加

シリンダ１２の中心線ＣＬから離れた箇所に出力軸１５を設け、運動方向変換構造１７によって、ピストン１３の往復直線運動を出力軸１５の回転運動に変換する。 - 特許庁

The baffle section 57 changes a direction so that the whole of air going up along the centerline CL extending in the vertical direction of a wick inner cylinder 17 flows toward the radial outside of an inner flame cylinder 47.例文帳に追加

バッフル部５７は、芯内筒１７の上下方向に延びる中心線ＣＬに沿って上昇する空気の全部が内炎筒４７の径方向外側に向かうように方向を変更する。 - 特許庁

If an engagement part 13 is abutted on the outside diameter of a large diameter part 33 when a clip CL is fitted to a shaft member 3, a predetermined space is formed between a fitting claw 17 and an engagement projection 29.例文帳に追加

クリップＣＬが軸部材３に装着される際に、係合部１３が大径部３３の外径に当接している場合には、取付け爪１７と係合突起２９との間に所定の隙間を形成した。 - 特許庁

The cable clamp member 17 includes a clamp base member 19 fixed on the supporting rod 7 and a movable clamp member which locates the optical cable 3 having different diameters approximately on the closure axis line CL and pinches the cable with the clamp base member 19.例文帳に追加

ケーブルクランプ部材１７は、支持棒７に固定されたクランプベース部材１９と、異なる径の光ケーブル３をほぼクロージャ軸線ＣＬ上に位置してクランプベース部材１９と挟み込むクランプ可動部材とでなる。 - 特許庁

When dry-etching both sides of the gate electrode 21 by using chlorine(Cl) and fluorine(F) which are brought into active states in plasma, etching is stopped in an etching stop layer (the barrier layer 17) by the relative selectivity of Al of this etching gas.例文帳に追加

ゲート電極２１の両側を、プラズマ中で活性状態となる塩素（Ｃｌ）およびフッ素（Ｆ）を含んだガスを用いてドライエッチングすると、このエッチングガスのＡｌに対する選択性によりエッチングストップ層（障壁層１７）でエッチングが停止する。 - 特許庁

The soldered part 29 is formed so that an imaginary center circle 43 imagined between an inscribed circle and a circumscribed circle of the soldered part 29 is positioned on the outside of an imaginary ring center line CL imagined in a joint region 21 between a diaphragm support part 11 and the wall part 17 of the sensor case 5 so as to enclose a fluid introduction hole 15.例文帳に追加

被半田付け部２９の内接円と外接円との間に仮想した仮想中心円４３が、ダイアフラム支持部１１とセンサケース５の壁部１７の接合領域２１内に流体導入孔１５を囲むように仮想した仮想環状中心線ＣＬよりも外側に位置するように被半田付け部２９を形成する。 - 特許庁

The synthetic quartz glass controlled so as to have an OH group content of at most 20 ppm, an H_2 molecule content of at most 1×10^17 molecules/cm^3, a Cl content of at most 10 ppm, and a total metal impurity content of at most 1 ppm is excellent in ultraviolet absorptivity and visible light transmittance and excellent in devitrification resistance and heat resistance.例文帳に追加

ＯＨ基含有量が２０ｐｐｍ以下、Ｈ_２分子の含有量が１×１０^１７個／ｃｍ^３以下、Ｃｌ含有量が１０ｐｐｍ以下及び金属不純物含有量の総和が１ｐｐｍ以下に制御した合成石英ガラスは、紫外線吸収性及び可視光透過性に優れかつ、耐失透性及び耐熱性に優れている。 - 特許庁