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意味・対訳 EB装置
「EB system」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 30件
Patterns are drawn by an EB lithographic system and are developed (b).例文帳に追加
ＥＢ描画装置でパターンを描画し、現像する（ｂ）。 - 特許庁
Patterns for a semiconductor device are delineated by using the EB lithography system.例文帳に追加
ＥＢ描画装置を用いて半導体装置のパターンを描画する。 - 特許庁
BATCH TRANSFER MASK, PARTIAL BATCH EB EXPOSURE SYSTEM AND BATCH TRANSFER MASK FORMING METHOD例文帳に追加
一括転写マスク、部分一括ＥＢ露光装置および一括転写マスク作成方法 - 特許庁
Patterns are delineated on a semiconductor device or on a mask for photolithography by using an EB lithography system.例文帳に追加
ＥＢ描画装置を用いて半導体装置や写真製版用マスクにパターンを描画する。 - 特許庁
In a lithographic operation, generally various adjustment/ correction operations are performed for the EB lithographic system 5, and then the EB lithographic data (pattern) stored in the pattern memory 8 are drawn.例文帳に追加
描画に際しては、一般的には、ＥＢ描画装置５の各種の調整・較正作業を実施した後に、パターンメモリ８に格納されているＥＢ描画データ（パターン）を描画する。 - 特許庁
To provide an EB-PVD (Electron-Beam Physical Vapor Deposition) apparatus equipped with an independent system designed to monitor and maintain a constant relative level of the molten pool within the EB-PVD chamber.例文帳に追加
ＥＢ−ＰＶＤチャンバ内部の溶融プールの一定の相対液面を監視して維持するように設計された、独立したシステムを備えるＥＢ−ＰＶＤ装置を提供する。 - 特許庁
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「EB system」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 30件
A respiratory gas conditioning system 100 includes an inhale branch (IB), an exhale branch (EB), a low-dead-space heat and moisture exchanger (HME) 50, and a connector 70 for connecting the branches (IB and EB) to a patient (PZ).例文帳に追加
呼吸ガスコンディショニングシステム（１００）には、吸気枝管（ＩＢ）、呼気枝管（ＥＢ）、低デッドスペース熱湿度交換器（ＨＭＥ）（５０）、および枝管（ＩＢ、ＥＢ）を患者（ＰＺ）に接続するためのコネクター（７０）が含まれる。 - 特許庁
To provide an accounting/electronic banking (EB) integrated system to generate data to be used by the accounting system and the electronic banking system.例文帳に追加
会計システムとＥＢシステムで用いるデータを作成する会計・ＥＢ統合システムを提供することを目的とする。 - 特許庁
To perform path search even under low Eb/Io before an antenna directivity is formed in a cellular system using an adaptive array antenna.例文帳に追加
アダプティブアレイアンテナを用いたセルラシステムにおいて、アンテナ指向性が形成される前の低Ｅｂ／Ｉｏ下でもパスサーチを行う。 - 特許庁
To conduct synchronization maintenance and synchronization detection for variable data rate transmission adopting a CDMA system at a low Eb/No.例文帳に追加
ＣＤＭＡ方式による可変データレート伝送の同期保持と同期検波が低Ｅ_b／Ｎ_0で行なえるようにする。 - 特許庁
EB LITHOGRAPHY SYSTEM, SEMICONDUCTOR DEVICE, MASK FOR PHOTOLITHOGRAPHY, METHOD OF MANUFACTURING THE SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD OF MANUFACTURING THE MASK FOR PHOTOLITHOGRAPHY例文帳に追加
ＥＢ描画装置、半導体装置、写真製版用マスク、半導体装置の製造方法、および写真製版用マスクの製造方法 - 特許庁
An electron beam exposure system projects an electron beam EB on a wafer 31 and forms an image, which beam is patterned by passing it through a mask 15.例文帳に追加
電子ビーム露光装置は、マスク１５を通過してパターン化された電子ビームＥＢをウエハ３１に投影結像させる。 - 特許庁
In an electron beam delineating system 1 at a low acceleration voltage, illumination conditions of electron beams EB on a second formation aperture 89 are adjusted so that diameters of crossovers 9a, 9b of the electron beams EB in a reduction projection optical system 120 is made larger than an aperture size.例文帳に追加
低加速電圧の電子ビーム描画システム１において、縮小投影光学系１２０内での電子ビームＥＢのクロスオーバ９ａ，９ｂの径がアパーチャサイズよりも大きくなるように、第２成形アパーチャ８９への電子ビームＥＢの照明条件を調整する。 - 特許庁
An auxiliary electronic irradiation device 15, that radiates an electron beam directed toward the sample is provided at an inclination of θ degrees with respect to an optical axis O1 of an electron optics system, to which a primary electron beam EB is radiated.例文帳に追加
試料に向けて電子ビームを照射する補助電子照射器１５が一次電子ビームＥＢが照射される電子光学系の光軸Ｏ１に対して角度θ傾けられて設けられている。 - 特許庁
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