Global Siliconとは 意味・読み方・使い方

To provide a method of etching a silicon oxide film where gas related to global warming is restrained from being exhausted, the silicon oxide film can be etched by keeping it high in selectivity to resist, an etching process can be kept high in reproducibility.例文帳に追加

地球の温暖化に繋がるようなガスの排出を抑止することができ、またレジストに対する選択性を高く維持してエッチングすることができ、加えてプロセス再現性においても有用な特徴を持つシリコン酸化膜のエッチング法を提供する。 - 特許庁

The local layer has an interlayer dielectric 3 principally comprising silicon oxide, the intermediate layer has an interlayer dielectric 5 composed of a low-k material, and the global layer has an interlayer dielectric 6 principally comprising silicon oxide.例文帳に追加

ローカル層は酸化シリコンを主成分とする層間絶縁膜３を有しており、中間層はｌｏｗ−ｋ材料からなる層間絶縁膜５を有しており、グローバル層は酸化シリコンを主成分とする層間絶縁膜６を有している。 - 特許庁

The titanium (Ti), silicon (Si) and aluminum (Al) are the most common elements of the earth respectively and they are materials whose load to be inflicted to the global environments is very small.例文帳に追加

チタン（Ｔｉ）、シリコン（Ｓｉ）及びアルミニウム（Ａｌ）は、いずれも地球上において非常にありふれた元素であり、地球環境に与える負荷の非常に小さい材料である。 - 特許庁

To provide a polishing pad for mechanically flattening the surface of an insulation layer or metal wiring formed on a silicon substrate which has a small global step difference, hardly causes dishing in the metal wiring, and generates less dust or scratches.例文帳に追加

シリコン基板の上に形成された絶縁層または金属配線の表面を機械的に平坦化するための研磨パッドにおいて、グローバル段差が小さく、金属配線でのディッシングが起こりにくく、ダストやスクラッチの発生が少ない研磨パッドを提供する。 - 特許庁

To provide a polishing pad formed so that a global step is small, dishing of a metal wiring hardly occurs, and the occurrence of dust and scratch is low, in a polishing pad to mechanically flatten the surface of an insulation layer, formed on a silicon substrate, or the surface of a metallic wiring.例文帳に追加

シリコン基板の上に形成された絶縁層または金属配線の表面を機械的に平坦化するための研磨パッドにおいて、グローバル段差が小さく、金属配線でのディッシングが起こりにくく、ダストやスクラッチの発生が少ない研磨パッドを提供する。 - 特許庁

To provide a polishing pad wherein a global step is small and the number of dusts to a wafer is small, and a polishing device and a polishing method using it in a polishing pad for mechanically flattening the surface of an isolation layer or a metallic wiring formed on a silicon substrate.例文帳に追加

シリコン基板の上に形成された絶縁層または金属配線の表面を機械的に平坦化するための研磨パッドにおいて、グローバル段差が小さく、ウェハへのダスト数が少ない研磨パッド、およびこれを用いた研磨装置、研磨方法を提供する。 - 特許庁

Especially, the light and freely deformable amorphous silicon solar cell (amorphous system solar cell) has excellent operability and cost effectiveness of the solar cell for sound insulation walls, contributes to market development of the entire solar cell, and reduces CO_2 to prevent global warming.例文帳に追加

特に軽量で変形自在のアモルファスシリコン太陽電池（非結晶系太陽電池）は遮音壁用太陽電池の作業性と経済性に優れ、太陽電池全体の市場開発に貢献し、ＣＯ２を削減して地球温暖防止が図れる。 - 特許庁

The detoxifying treatment is carried out in which at least one kind of catalysts selected from the group consisting of a metal phosphate, a metal sulfate and a metal nitrate is introduced into a reaction tube, a reactor, made of a silicon oxide and ceramics to reduce the infrared absorption of the global warming gas.例文帳に追加

燐酸金属塩、硫酸金属塩、硝酸金属塩酸から選択される少なくとも１種の触媒を珪素酸化物やセラミックスからなる反応筒、反応容器に入れて地球温暖化ガスの赤外線吸収率を下げる除害処理を行う。 - 特許庁