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H layerとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 H層位; H層
「H layer」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 575件
The write field H_G at the center of each magnetic layer is greater than that layer's H_O.例文帳に追加
それぞれの磁性層の中央における書込み磁場H_Gは、その層のH_0よりも大きい。 - 特許庁
Impurities, such as C, H and O are prevented from being mixed into the i-type μc-Si:H layer 3 (photoelectric conversion layer) at the p-type a-Si:H layer 5.例文帳に追加
Ｃ，Ｈ，Ｏ等の不純物のｉ型μｃ−Ｓｉ：Ｈ層３（光電変換層）への混入がｐ型ａ−Ｓｉ：Ｈ層５にて防止される。 - 特許庁
The p layer 3 consists of p-type poly-Si:H, the n layer 5 consists of n-type poly-Si:H.例文帳に追加
ｐ層３は、ｐ型ｐｏｌｙ−Ｓｉ：Ｈからなり、ｎ層５は、ｎ型ｐｏｌｙ−Ｓｉ：Ｈからなる。 - 特許庁
The p layer 3 consists of p-type a-Si:H, the n layer 5 consists of n-type a-Si:H.例文帳に追加
ｐ層３は、ｐ型ａ−Ｓｉ：Ｈからなり、ｎ層５は、ｎ型ａ−Ｓｉ：Ｈからなる。 - 特許庁
The (p) layer 3 consists of p-type a-Si:H, the (n) layer 5 consists of n-type a-Si:H.例文帳に追加
ｐ層３は、ｐ型ａ−Ｓｉ：Ｈからなり、ｎ層５は、ｎ型ａ−Ｓｉ：Ｈからなる。 - 特許庁
When it is assumed that the width of the solution layer 16 and the height of the solution layer 16 are D and H, respectively, D and H are so set as to satisfy D≥0.0005×log^e×H+0.0037.例文帳に追加
不凍液層１６の幅Ｄは、不凍液層１６の高さをＨとすると、Ｄ＝０．０００５・ｌｏｇ^ｅ・Ｈ＋０．００３７以上にした。 - 特許庁
The light-transmitting resin layer 7 is a resin satisfying all of the following three conditions in a film thickness of 30 μm, where saturation C* is 1≤C*≤2, a hue angle h is -135°≤h≤-45°, and lightness L* is L*≥90 in an L*C*h color model.例文帳に追加
この透光性樹脂層２は膜厚30μmにおいて、L^*C^*h表色系における彩度C^*が1≦C^*≦2、色相角度hが-135°≦h≦-45°、かつ明度L^*がL^*≧90の範囲内の３条件を同時に満たす樹脂である。 - 特許庁
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「H layer」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 575件
On a substrate 1, an n-type μc-Si:H layer 2, an i-type μc-Si:H layer 3 serving as photoelectric conversion layer, a p-type μc-Si:H layer 4, a p-type a-Si:H layer 5 and a transparent electrode 6 made of ITO are laminated and formed in the order.例文帳に追加
基板１上に、ｎ型μｃ−Ｓｉ：Ｈ層２、光電変換層となるｉ型μｃ−Ｓｉ：Ｈ層３、ｐ型μｃ−Ｓｉ：Ｈ層４、ｐ型ａ−Ｓｉ：Ｈ層５、及び、ＩＴＯ製の透明電極６がこの順に積層形成されている。 - 特許庁
The insulation protective layer 10 is formed in two layer-structure with an insulation lining 11 of hardness 15° H to 50° H or less, which contacts the insulation supporting layer 20, and an insulation outer layer 12 of thickness 0.01 to 0.1 mm and hardness 70° H or more.例文帳に追加
絶縁保護層１０を、絶縁支持層２０に接触する硬度１５°Ｈ〜５０°Ｈ以下の絶縁内層１１と、厚さ０．０１〜０．１ｍｍで硬度７０°Ｈ以上の絶縁外層１２とから二層構造に形成する。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING H-TYPE LAYER PEROVSKITE PHOTOCATALYST AND H-TYPE LAYER PEROVSKITE PHOTOCATALYST例文帳に追加
Ｈ型層状ペロブスカイト系光触媒の製造方法およびＨ型層状ペロブスカイト系光触媒 - 特許庁
The surface layer of the LiNbO3 crystal substrate is exchanged with protons (H+) to form HLiNbO3 and a large difference in the refractive index between the LN crystal substrate and the proton exchange layer is obtained.例文帳に追加
LiNbO_3の結晶基板の表面層はプロトン(H^+)交換され、HLiNbO_3が形成され、ＬＮ結晶基板とプロトン交換層の高い屈折率差が得られる。 - 特許庁
In this way, a uniform metal particulate layer 17 having thickness h is obtained.例文帳に追加
これにより、厚みｈの均一な金属微粒子層17を得る。 - 特許庁
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