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H padとは 意味・読み方・使い方
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「H pad」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 34件
Then, the pad oxide film 2 is removed to made it retreat by etching in a step (h).例文帳に追加
次に(h)にてパット酸化膜2をエッチング除去して後退させる。 - 特許庁
Further, a bonding wire 316 that connects between a pad 327 and a pad 328 is set to be 20×d≤h, wherein the outer diameter of the bonding wire is d and the height from the pad 327 to the curved apex is h.例文帳に追加
また、パッド327とパッド328との間を接続するボンディングワイヤ316は、自身の外径をdとし、パッド327から湾曲する頂点までの高さをhとすると、20×d≦hに設定されている。 - 特許庁
Solder films H are formed on the upper surfaces of the p-side pad electrodes 13 and 14, respectively.例文帳に追加
p側パッド電極13,14の上面側に、それぞれはんだ膜Hが形成されている。 - 特許庁
The p-side pad electrode 32 of an infrared semiconductor laser device 3 is bonded onto the p-side pad electrode 14 with the corresponding solder film H sandwiched therebetween.例文帳に追加
また、赤外半導体レーザ素子3のp側パッド電極32がはんだ膜Hを介してp側パッド電極14上に接合されている。 - 特許庁
The p-side pad electrode 22 of a red semiconductor laser device 2 is bonded onto the p-side pad electrode 13 with the corresponding solder film H sandwiched therebetween.例文帳に追加
赤色半導体レーザ素子2のp側パッド電極22がはんだ膜Hを介してp側パッド電極13上に接合されている。 - 特許庁
The solder resist layer 4 is formed not in contact with the electrode pad 3 and satisfies 1.0≤H/L≤1.5, where L is the maximum width of the electrode pad and H is the thickness of the solder resist layer.例文帳に追加
ソルダレジスト層4は、電極パッド3と接しないように形成され、且つ、前記電極パッドの最大幅をL、前記ソルダレジスト層の厚みをHとした場合に、H/Lが1.0≦H/L≦1.5を満たすように形成される。 - 特許庁
As result, an inflection point H is formed on the outer side from the pad rubber unit 6a to prevent the inflection point H formed on the edge of the sheet from passing through the pad rubber unit 6a.例文帳に追加
これにより、変曲点Hはパッドゴム部6aよりも外側に形成されることになり、シートPが給送される際に、シート先端に形成された変曲点Hがパッドゴム部6aを通過することをなくす。 - 特許庁
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「H pad」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 34件
The rust-preventive agent 28 of the pad 30 is pressed against the projecting parts 21 (h), and the pad 30 is separated from the metal surface 22 to re-transfer the rust-preventive agent 28 only to the projecting parts 21 (i).例文帳に追加
パッド30の防錆剤28を凸型部21上に押圧し(h)、パッド30を金属表面22から離すことにより、凸型部21上のみに防錆剤28を再転写させる(i)。 - 特許庁
The joint 37 has a narrow flow width portion 37a for regulating the flow of solder H from the electrode 34 toward the pad 36.例文帳に追加
接続部37は、電極34からパッド36に向かう半田Hの流れを規制する流れ幅狭部37aを有している。 - 特許庁
It is favorable that depths (h) of the bottomed holes 7 are 30-60%, especially, 40-50% of the thickness of the seat pad 1 at positions where the bottomed holes 7 are formed.例文帳に追加
凹穴7の深さhは、その凹穴7を設けた位置におけるシートパッド1の厚みの30〜60%特に40〜50%程度が好ましい。 - 特許庁
The contact positions E, F, G and H of the cleaning roller 35 coming into contact with the cleaning pad 63 are changed by a position-varying means.例文帳に追加
清掃パッド63に当接するクリーニングローラ35の当接位置E、F、G、Hは位置変更手段で変えられる。 - 特許庁
The electrode pad 10 used by being brought into contact with the object H, electrically contacted with a power source 101, and causing a current to pass in the object H includes a light transmissive conductive layer.例文帳に追加
対象物Hに接触させて使用され、電源101に電気的に接続されるとともに、前記対象物H内に電流を通過させる電極パッド10であって、光透過性の導電層を備えたことを特徴とする。 - 特許庁
The associate method of polishing is such that a polishing fluid is fed to the surface of the pad 10 attached to a rotary surface plate D via a nozzle N and the work to be polished 11 sucked by a rotary head H is pressed to the surface of the pad 10.例文帳に追加
ノズルNを通じて、回転定盤D上に貼り付けた研磨パッド10の表面に研磨液を供給し、回転ヘッドHに吸着した研磨対象物11を研磨パッド10の表面に押し付ける研磨方法。 - 特許庁
When one pad 102 exists at a bag holding point H of a carrying-in conveyor 5, the other pad 102 exists at a bag releasing point R of a carrying-out conveyor 65.例文帳に追加
一方のパッド102が搬入コンベア5の袋保持地点Hにあるとき他方のパッド102が搬出コンベア65の袋解除地点Rにある。 - 特許庁
The mold flow guide bar 114 is installed in a non-pad blank section A, and is formed in a projection shape with a height H exceeding the pad 113 and the solder mask layer 112.例文帳に追加
モールド流れガイドバー114は、パッド無し空白区域Aに設置され、かつパッド113とはんだマスク層112を越える高さHを有して突起状に形成される。 - 特許庁
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