H-8 (film)とは 意味・読み方・使い方

Subsequently, the boron nitride film is deposited on each aluminum nitride nanotube by heating the second crucible 8 in which the powder 5 is charged, to 1,550-1,650°C for 1-1.5 h.例文帳に追加

次に、Ｂ−Ｎ−Ｏ化合物粉末５を入れた第２の坩堝８を１５５０℃〜１６５０℃に１時間〜１．５時間加熱して、窒化アルミニウムナノチューブ上に窒化ホウ素膜を堆積させる。 - 特許庁

An inter-layer insulating film 8 comprising an insulator represented by a chemical formula comprising Si-H combination or Si-CH3 combination is formed on a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板上にＳｉ−Ｈ結合又はＳｉ−ＣＨ_3結合を有する化学式で表される絶縁体を含有する層間絶縁膜８を形成する。 - 特許庁

Alternatively, an absolute value of a magnetostrictive constant of this alloy metal thin film is equal to or less than 1.5×10^-5, an anisotropic magnetic field (H_k) is 8 Oe to 16 Oe, and a magnetoresistance rate of change is equal to or more than 2.5%.例文帳に追加

もしくは、この合金金属薄膜の磁歪定数の絶対値が１．５×１０^-5以下であり、かつ異方性磁界(Ｈ_k)が８Ｏｅ以上１６Ｏｅ以下であり、かつ磁気抵抗変化率が２．５％以上である。 - 特許庁

A microcrystalline silicon thin film 7a constituting a channel region and a hydrogen-containing silicon-based insulation film 13 made of silicon nitride (SiNx) containing ≥8×10^21/cm^3 hydrogen [Si-H] bound to the silicon are sequentially laminated and formed on a substrate 1.例文帳に追加

基板１上に、チャネル領域を構成する微結晶シリコン薄膜７ａと、シリコンに結合した水素［Ｓｉ−Ｈ］を８×１０^21個／ｃｍ^3以上含む窒化シリコン（ＳｉＮｘ）からなる水素含有シリコン系絶縁膜１３とを積層成膜する。 - 特許庁

The heating beam H is modulated by means of an acoustooptical modulation element 3, passed through an optical delaying path 5 having a variable length by moving a prism 4, and condensed to the interface 10 between a thin film 7 and a transparent substrate 8.例文帳に追加

加熱ビームは音響光学変調素子３によって変調され、そのビームはプリズム４を移動することによりその長さを可変とした光学遅延路５を通し、加熱ビームＨとして薄膜７と透明な基板８の界面１０に集光する。 - 特許庁

This optical microcantilever 10 includes a support 1, an optical waveguide 2, a light-blocking film 3 , a reflecting film 4, a pointed tip 5, a microscopic aperture 6 formed at the end of the tip 5, and a mirror 7 for reflecting propagating light H propagated from a light input/output end 8 of the optical waveguide 2 towards the microscopic aperture 6.例文帳に追加

光マイクロカンチレバー１０は、支持部１と、光導波路２と、遮光膜３と、反射膜４と、先鋭化されたチップ部５と、そのチップ部５の先端の微小開口６と、光導波路２の光入射／出射端８から伝播してきた伝播光Ｈを微小開口６に導くように反射するミラー７と、から構成されている。 - 特許庁

This optical micro cantilever 10 includes a support 1, an optical waveguide 2, a light-blocking film 3, a reflecting film 4, a pointed tip 5, a minute aperture 6 formed at the end of the tip 5, and a mirror 7 for reflecting propagating light H propagated from a light input/output end 8 of the optical waveguide 2 towards the minute aperture 6.例文帳に追加

光マイクロカンチレバー１０は、支持部１と、光導波路２と、遮光膜３と、反射膜４と、先鋭化されたチップ部５と、そのチップ部５の先端の微小開口６と、光導波路２の光入射／出射端８から伝播してきた伝播光Ｈを微小開口６に導くように反射するミラー７と、から構成されている。 - 特許庁

This molding (1) such as a film, a mesh sheet, or the like comprises a fine-retardant polyolefin resin molded article, a polyolefin resin prepared by polymerizing an α-olefin wherein the average number of carbon atoms of monomer components is 2.6≤C≤8, a flame retardant, a heat stabilizer, and a high-molecular-weight hindered amine.例文帳に追加

モノマー成分の平均炭素数Ｃが2.6≦C≦8のαオレフィンを重合したポリオレフィン樹脂と、難燃効果剤と熱安定剤と高分子量ヒンダードアミンを含む難燃性ポリオレフィン樹脂成形物であって、前記難燃効果剤がトリアジン骨格とその近傍に位置する複数のピペリジン基のイミノ基(>N-H)の一部または全部がN-アルコキシ・イミノ基（＞N-O-R）（但し、RO-は炭素数1-18のアルコキシ基等）に置換されているヒンダードアミン誘導体であり、0.2-10質量％の範囲で含有したフィルムまたはメッシュシート等の成形体(1)とする。 - 特許庁