HNO3とは 意味・読み方・使い方

The etching solution is constituted of a mixture containing HF, HNO3 and H2SO4 preferably.例文帳に追加

前記エッチング処理液は、好ましくはＨＦ、ＨＮＯ_3 およびＨ_2 ＳＯ_4 を含む混合液からなる。 - 特許庁

The ratio of hydrofluoric acid to nitric acid in the etching solution is 0.07≤[HF]wt/[HNO3]wt≤0.59 by weight.例文帳に追加

エッチング液中におけるフッ酸と硝酸の比が、重量比で、０．０７≦［ＨＦ］_wt／［ＨＮＯ_3］_wt≦０．５９を満たす。 - 特許庁

To provide a method for recovering acids, enabling the amount decomposed of HNO3 to be reduced, making the recovery stage of NOx unnecessary and enabling cost reduction to be carried out in a process for recovering acids such as HF and HNO3 from a solution where metals such as Fe, Cr and Ni are dissolved in the above acids.例文帳に追加

Ｆｅ、Ｃｒ、Ｎｉ等の金属のＨＦ、ＨＮＯ_3 等の酸への溶解液からこれらの酸を回収するプロセスにおいて、分解されるＨＮＯ_3 の量を低減させ、それによりＮＯｘの回収段階を不要とすることによって、経費節減を図ることのできる酸回収プロセスを提供することを課題とする。 - 特許庁

Subsequently a simple matrix substrate 20 is obtained by etching and removing the glass substrate 201 with an etchant (acid), for example a mixture of HF and HNO3 in 1:20 ratio.例文帳に追加

その後、ガラス基板２０１を、たとえば、ＨＦとＨＮＯ_3とを１：２０の割合で混合したエッチャント（酸）でエッチングして除去することで、単純マトリクス基板２０を得る。 - 特許庁

This method for producing a langasite-based single crystal substrate comprises a step for polishing at least either one main face of a raw material substrate and a step for carrying out wet etching of main face of the polished substrate in a solution containing H3PO4, HNO3 and CH3COOH.例文帳に追加

ランガサイト系単結晶基板の製造方法は、原料基板の少なくとも一方の主面を研磨する工程と、この研磨した基板の主面をＨ_3ＰＯ_4、ＨＮＯ_3およびＣＨ_3ＣＯＯＨを含む溶液で湿式エッチングする工程とを備える。 - 特許庁