SiO2とは 意味・読み方・使い方

The third serial port, sio2 (see sio(4) , known as COM3 in DOS), is on /dev/cuad2 for dial-out devices, and on /dev/ttyd2 for dial-in devices.発音を聞く 例文帳に追加

3 番目のポート sio2 (sio(4) をご覧ください。 DOSでは、COM3 と呼ばれます。 - FreeBSD

An SiO2 film 109 is formed on the entire surface, SiO2 film at the upper surface section of the embedding structure is removed by etching (Fig.3 (a)).例文帳に追加

全面にSiO_2膜109を形成し、埋め込み構造の(100)上面部のSiO_2膜をエッチング除去する（図３（a））。 - 特許庁

At least one kind selected from Al2O3, CaO, MgO, SiO2, ZrO2, ZrO2, SiO2, B2O3, FeO, FeO2, and Fe2O3 in suitable as oxide.例文帳に追加

酸化物はAl_2O_3、CaO、MgO、SiO_2、ZrO_2、ZrO_2・SiO_2、B_2O_3、FeO、FeO_2およびFe_2O_3から選択された少なくとも１種が好適である。 - 特許庁

At this time, it is desirable that the SiO2 source is a low melting point slag containing SiO2, such as Ni slag.例文帳に追加

その際、ＳｉＯ_2 源がＮｉ滓等のＳｉＯ_2 を含有した低融点スラグであることが好ましい。 - 特許庁

METHOD FOR DEPOSITING SiO2 FILM AND ARTICLE WITH SiO2 FILM DEPOSITED BY THE METHOD例文帳に追加

ＳｉＯ２膜の成膜方法及び該方法により成膜されたＳｉＯ２膜を備えた物品 - 特許庁

After an SiO2 film 14 is formed and resist is applied, a 5 μm-wide SiO2 film 14 is left at an interval of a width of about 30 μm.例文帳に追加

その後、SiO_2膜14を形成し、レジストを塗布後、幅30μｍ程度の間隔で、幅5μmのSiO_2膜14を残す。 - 特許庁

INSOMNIA-TREATING COMPOSITION CONTAINING SILICON DIOXIDE (SiO2)例文帳に追加

二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）を含む不眠症治療用組成物 - 特許庁

METHOD OF FORMING SiO2 BLANK AND ITS APPARATUS例文帳に追加

ＳｉＯ２ブランクを形成する方法及びその装置 - 特許庁