Step on It! (film)とは 意味・読み方・使い方

The hardcoat film 1 comprises a film substrate 11 and a hardcoat layer 12 provided on at least one face thereof, where the hardcoat layer 12 is formed by a step of applying the hardcoat coating liquid on the film substrate 11 to form a coating film, a step of drying the coating film to remove the solvent and a step of curing the coating film by irradiating it with an ionizing radiation.例文帳に追加

フィルム基材１１の少なくとも一方の面にハードコート層１２を備えるハードコートフィルム１であって、該ハードコート層１２が、前記ハードコート塗液をフィルム基材１１上に塗布し塗膜を形成する工程、前記塗膜を乾燥し溶媒を除去する工程、前記塗膜に電離放射線を照射し硬化する工程により形成されている。 - 特許庁

The method includes: a step of forming a polymide film on a supporter; a step of forming the ceramic film such as ITO or titania on the polymide film by applying a solution of a metal salt such as a metal alkoxide or metal chloride salt to the polymide film and heating it to 500°C or higher; and a step of transferring the ceramic film on the low heat-resistant substrate such as a plastic.例文帳に追加

支持体上にポリイミド膜を形成する工程と、 その上に金属アルコキシドや金属塩化物塩などの金属塩の溶液を塗布した後、５００℃以上に加熱することにより、前記ポリイミド膜上にＩＴＯやチタニアなどのセラミック膜を形成する工程と、 前記セラミック膜をプラスチック等の低耐熱性の基材上に転写する工程とを備えることを特徴とする。 - 特許庁

It also includes a step for etching and removing at least a part of the insulation film on the peripheral circuit area and a step for flattening the surface of the insulation film by the CMP method.例文帳に追加

そして、周辺回路領域上の前記絶縁膜の少なくとも一部をエッチングして除去する工程と、絶縁膜の表面をＣＭＰ法によって平坦化する工程と、を有する。 - 特許庁

The method for manufacturing a pattern includes the step of applying the positive photosensitive resin composition on a supporting substrate and drying it, the step of exposing the photosensitive resin film obtained by the drying step, the step of implementing development using an alkali solution to remove the exposure portion of the photosensitive resin film after the exposure, and the step of heat-treating the photosensitive resin film after the development.例文帳に追加

前記のポジ型感光性樹脂組成物を支持基板上に塗布し乾燥する工程、前記乾燥工程により得られた感光性樹脂膜を露光する工程、前記露光後の感光性樹脂膜の露光部を除去するためにアルカリ水溶液を用いて現像する工程、及び前記現像後の感光性樹脂膜を加熱処理する工程を含むパターンの製造方法。 - 特許庁

The manufacturing method comprises a step to form a sacrifice layer on a substrate, a step to form the thin film fuel cell layer on the sacrifice layer and to connect it to the substrate, and a step to remove the sacrifice layer and to form a gap to become a reaction gas pathway between the thin film fuel cell layer and the substrate.例文帳に追加

本発明によれば、燃料電池の製造方法は、基板上に犠牲層を形成するステップ、犠牲層上に薄膜燃料電池層を形成させ基板に接続するステップ、犠牲層を除去し薄膜燃料電池層と基板との間に反応ガス経路となる間隙を形成させるステップからなる。 - 特許庁

This method for forming a metal oxide film with predetermined patterns on a substrate comprises: a first step of applying a liquid form matter containing a metal salt on the substrate and forming a metal salt film; a second step of providing predetermined patterns to the metal salt film; and a third step of subjecting the metal salt film to thermal oxidation treatment or predetermined plasma oxidation treatment to convert it into a metal oxide film.例文帳に追加

基材上に、所定パターンを有する金属酸化膜の形成方法等であって、基材に対して、金属塩を含有する液状物を塗布して金属塩膜を形成する第１工程と、金属塩膜に対して、所定パターンを設ける第２工程と、金属塩膜に対して、熱酸化処理または所定のプラズマ酸化処理を行い、金属酸化膜とする第３工程と、を含む。 - 特許庁

The manufacturing process comprises a step to form a gel thin film 2b by applying a gel polymer consisting of a biocompatible polymer on hydrophobic release film 6 by adding percutaneous absorption preparation 1 to and making it carried on gel thin film 2b, a step to dry the gel thin film 2b and a step to release film 6.例文帳に追加

上記製造方法は、疎水性の剥離フィルム６上に生体親和性高分子からなるゲル状高分子を添加しゲル状薄膜２ｂを形成する工程と、該ゲル状薄膜２ｂに経皮投与剤１を添加し担持させる工程と、該ゲル状高分子薄膜２ｂを乾燥させる工程と、上記剥離フィルム６を剥離する工程とを含む。 - 特許庁

The method of forming a dielectric film of an MIM capacitor includes a step for forming a passivation film 41a on a dielectric film 33a of the MIM capacitor, and a step in which the dielectric film 33a of the MIM capacitor is separated from an upper photoresist pattern not to directly contact it.例文帳に追加

ＭＩＭキャパシタの誘電膜を形成する方法であって、ＭＩＭキャパシタの誘電膜３３ａ上にパッシベーション膜４１ａを形成する段階と、ＭＩＭキャパシタの誘電膜３３ａが上部フォトレジストパターンと直接接触しないように分離させる段階と、を含む。 - 特許庁