acceptor numberとは 意味・読み方・使い方

(B) The value obtained by dividing the molecular weight by the total number of the hydrogen-bond donor parts and the hydrogen-bond acceptor parts is 30 to 65.例文帳に追加

（Ｂ）分子量を水素結合ドナー数と水素結合アクセプター数の合計数で除した値が３０以上６５以下。 - 特許庁

The organic thin-film solar cell has a structure in which the surface of a donor or acceptor layer is formed into a number of islands surrounded by fine grooves of nano-scale width, and the other donor or acceptor layer is mated with the fine grooves.例文帳に追加

有機薄膜太陽電池がドナーまたはアクセプターの層の表面がナノスケールの幅の微細な溝に囲まれた多数の島状に形成され、該微細な溝にもう片方のドナーまたはアクセプターの層が充填された構造を有するようにする。 - 特許庁

The response messages, (typically RM-WS infrastructure messages), are then used to determine an upper limit on the number of messages that can be sent to the acceptor in order to prevent resending messages due to buffer overrun.例文帳に追加

この応答メッセージ、(通常、RM-WSインフラストラクチャメッセージ)を使用して、バッファオーバーランに起因するメッセージの再送信を防止するために、アクセプタに送信できるメッセージ数の上限を決定する。 - 特許庁

To provide a small and detachable jointing device for supplying and receiving liquid, guiding liquid from a liquid reservoir to a liquid acceptor, composed of the small number of parts, having a simple structure, without contaminating the liquid and prevented from leakage of the liquid.例文帳に追加

液体を液体リザーバから液体アクセプタへ導く着脱可能な液体送受用ジョイントで、小型で部品点数が少なく単純な構造を有し、液体を汚染することなく、かつ液漏れしないものを提供する。 - 特許庁

The organic thin-film solar cell has a structure in which the surface of a layer with a bulk hetero junction by a donor and an acceptor formed thereon is formed into a number of island-like structures surrounded by fine grooves of a nano-scale width, and electrodes are formed in the fine grooves.例文帳に追加

有機薄膜太陽電池がドナーとアクセプターによるバルクへテロ接合が形成された層の表面がナノスケールの幅の微細な溝に囲まれた多数の島状構造に形成され、該微細な溝に電極が形成された構造を有するようにする。 - 特許庁

The microfabrication processing agent consisting of hydrogen fluoride, at least two components, and a solvent with acceptor number of each component of 35 or less and specific inductive capacity of 40 or less, and etching rate to the high permittivity film at 25°C twice or more than that to the silicone oxide film at 25°C.例文帳に追加

本発明の微細加工処理剤は、フッ化水素と、少なくとも２成分からなり、各成分のアクセプター数が３５以下、比誘電率が４０以下の溶媒とを含み、高誘電率膜に対する２５℃でのエッチレートがシリコン酸化膜に対する２５℃でのエッチレートの２倍以上であることを特徴とする。 - 特許庁