alteration productとは 意味・読み方・使い方

To form a printed product having an easy truth or falsehood decision, high forgery and alteration resistance and high security at a low cost.例文帳に追加

真偽判定が容易で、耐偽変造性及びセキュリティー性の高い印刷物を低コストで形成する。 - 特許庁

To enable breadth adjustment at a state capable of fine cutting at all times in correspondence with the alteration of breadth dimensions of a product, and correspond to high speed operation.例文帳に追加

物品の幅寸法の変更に対応して、常に良好な切断を行ない得る状態で幅調節し得ると共に高速運転に対応する。 - 特許庁

To provide a transfer foil capable of easily manufacturing a printed product having a satisfactory alteration and tamper preventive function and a surface strength.例文帳に追加

良好な変造、改ざん防止機能と表面強度を有する印刷物を容易に製造し得る転写箔を得る。 - 特許庁

To provide a mold assembly for facilitating the replacement and adjustment of a mold body at the time of alteration of a molded product.例文帳に追加

成形品を変更する際、型体の交換及び調整が容易な成形用金型装置を提供する。 - 特許庁

To provide an injection molded product taking-out apparatus capable of easily performing the setting work of suction pressure capable of properly and certainly sucking and holding an altered product at a time of the alteration of the kind or size of an injection molded product without approaching the injection molded product taking-out apparatus.例文帳に追加

射出成形品の種類や大きさなどの変更に際して、変更された成形品を適正かつ確実に吸着保持できる吸着圧の設定作業が射出成形品取出装置に近付くことなく容易に行える射出成形品取出装置を提供する。 - 特許庁

To provide a system for product quality control information which enables a customer to easily utilize product quality inspection result data for the product quality management of the customer and to easily confirm alteration even though the inspection results are altered.例文帳に追加

この発明は、製品品質検査成績データを顧客の製品品質管理に容易に利用することができ、検査成績書を改ざんしても容易に確認することができる製品品質管理情報システムを提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor optical element, which can prevent any alteration product from remaining on the outermost layer of a multilayer semiconductor layer even when a thick dielectric film formed of an organic silane based material as a mask.例文帳に追加

有機シラン系原料を用いた厚膜の誘電体膜をマスクとして用いる場合であっても、多層半導体層の最表層における変質物の残留を抑止することができる半導体光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

In this process, an alteration product D that exists on the surface of the second cap layer 6 functions as a mask and can cause etching of the second cap layer 6 to stop when a crystal face having a low etching rate is exposed.例文帳に追加

このとき、第２のキャップ層６の表面に存在する変質物Ｄがマスクとして機能し、エッチングレートの低い結晶面が露出したところで第２のキャップ層６のエッチングが止まってしまうことが生じ得る。 - 特許庁