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atomic gasとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 原子ガス; 原子気体
「atomic gas」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 146件
GAS CELL TYPE ATOMIC OSCILLATOR例文帳に追加
ガスセル型原子発振器 - 特許庁
ATOMIC GAS CELL, FILM DEPOSITION SYSTEM, METHOD FOR FORMING ATOMIC GAS, AND FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加
原子状ガスセル、成膜装置、原子状ガスの生成方法、及び成膜方法 - 特許庁
GAS CELL UNIT, ATOMIC OSCILLATOR AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加
ガスセルユニット、原子発振器および電子装置 - 特許庁
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「atomic gas」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 146件
BUFFER GAS MIXING RATIO SETTING METHOD, FREQUENCY ADJUSTING METHOD OF ATOMIC OSCILLATOR, AND ATOMIC OSCILLATOR例文帳に追加
バッファーガス混合比設定方法、原子発振器の周波数調整方法、及び原子発振器 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING GAS CELL, GAS CELL, AND RUBIDIUM ATOMIC OSCILLATOR例文帳に追加
ガスセルの製造方法、ガスセル及びルビジウム原子発振器 - 特許庁
For spatially separating gas atoms, atomic gas may be diluted with an inert gas.例文帳に追加
空間的にガス原子を隔てるために、不活性ガスを用いて原子ガスが希釈されてもよい。 - 特許庁
To obtain a high quality film body by feeding an atomic gas obtained by a plasma cell to a reaction system in a high density and utilizing the activity of the atomic gas.例文帳に追加
プラズマセルで得た原子状ガスを高密度に反応系に供給し、前記原子状ガスの活性を利用して高品質の膜体を得る。 - 特許庁
To provide an improved gas delivery apparatus for atomic layer deposition.例文帳に追加
原子層堆積のための改良されたガス配送装置を提供する。 - 特許庁
A second reactant gas, when it is injected into the reaction chamber, flows over the atomic layer of the first reactant gas and forms an atomic layer on the atomic layer of the first reactant gas.例文帳に追加
第2の反応物ガスが、反応チャンバへ注入される際に、第1の反応物ガスの原子層上へ流入し、第1の反応物ガスの原子層上に原子層を形成する。 - 特許庁
The method of adsorption removal of atomic hydrogen includes a desorption step for desorbing atomic hydrogen adsorbed by an inconel by heating the inconel and an adsorption removal step for adsorbing and removing atomic hydrogen in an objective gas by exposing the inconel to the objective gas containing atomic hydrogen.例文帳に追加
原子状水素吸着除去方法は、インコネルを加熱することによりインコネルに吸着した原子状水素を脱離させる脱離工程と、インコネルを原子状水素を含む対象ガス中に暴露することにより対象ガス中の原子状水素を吸着除去する吸着除去工程とを含む。 - 特許庁
The gas barrier film comprises a transparent thin film layer containing 2 to 64 atomic % of an oxygen, 0.5 to 56 atomic % of a nitrogen, 0.5 to 55 atomic % of a silicon and 5 to 80 atomic % of an aluminum and formed on at least one surface of a plastic film.例文帳に追加
プラスチックフィルムの少なくとも一方の面に、酸素濃度2〜64原子%、窒素濃度0.5〜56原子%、珪素濃度0.5〜55原子%、およびアルミニウム濃度5〜80原子%からなる透明薄膜層が形成されたガスバリヤー性フィルムである。 - 特許庁
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