cathode surface glowとは 意味・読み方・使い方

This substrate can be obtained by introducing inert gas into a high vacuum chamber 1, applying a voltage of 450 to 2,000 V between a cathode 3 and an anode 4 in the high vacuum chamber 1 to initiate glow discharge, retaining a substrate 2 to be treated within a positive column 7 of the glow discharge for 20-60 s to apply plasma treatment to the hard coat layer on the surface.例文帳に追加

この基板は、不活性ガスを導入した高真空室１内のカソード３とアノード４間に４５０〜２０００Ｖの電圧を印加してグロー放電を起こさせ、このグロー放電の陽光柱７内に被処理基板２を２０〜６０秒間滞留させて表面のハードコート層をプラズマ処理することによって得られる。 - 特許庁