chlorine trifluorideとは 意味・読み方・使い方

To provide a low-cost apparatus for detoxifying a gas comprising chlorine trifluoride, exhibiting a high recovery rate for CaF_2 without causing plugging in detoxifying a gas comprising chlorine trifluoride.例文帳に追加

三フッ化塩素含有ガスの除害において、安価で閉塞が発生せず、かつＣａＦ_２の回収率が高い三フッ化塩素ガスの除害処理装置を提供する。 - 特許庁

Under a condition that the pipe 19 is connected to the container 1, a washing gas containing chlorine trifluoride is circulated into the pipe 19 to remove oily silane deposited thereon.例文帳に追加

排気管１９を反応容器１に接続した状態にて、該排気管１９内に三フッ化塩素を含有した洗浄ガスを流通することにより、その堆積したオイリーシランを除去する。 - 特許庁

In the silicon carbide-coated member, impurities present on the surface layer of the silicon carbide coating layer are removed together with silicon carbide in the surface layer by etching treatment using gaseous chlorine trifluoride.例文帳に追加

炭化ケイ素被覆部材について、三フッ化塩素ガスを用いたエッチング処理により、前記炭化ケイ素被覆層の表層部に存在する不純物を、該表層部の炭化ケイ素とともに除去する。 - 特許庁

Chlorine trifluoride gas is touched to the surface of silicon carbide preferably at a concentration of 1-100 vol% while heating the surface of silicon carbide at 300-700°C.例文帳に追加

三フッ化塩素ガスを炭化珪素表面に、好ましくは、該炭化珪素表面を加熱して該表面の温度を３００〜７００℃とし且つ三フッ化塩素ガスの濃度を１〜１００体積％として、接触させる。 - 特許庁

In the method, a gas containing chlorine trifluoride is supplied into an exhaust tube connecting the reaction vessel and an exhaust means during a process for forming the deposited film.例文帳に追加

真空気密可能な反応容器に、基体を設置し、ケイ素原子を含む原料ガスを高周波電力により分解し該基体上に堆積膜形成を行う堆積膜形成方法において、堆積膜形成工程中に前記反応容器と排気手段とを接続する排気配管内に三フッ化塩素を含むガスを供給することを特徴とする。 - 特許庁