coveragesとは 意味・読み方・使い方

To prevent contamination in an image forming apparatus due to scattering of toner and to prevent image soiling on transfer paper by effectively recovering scattered toner from a developer carrier even when original documents having high document image coverages are continuously printed.例文帳に追加

原稿印字率の高い原稿を連続印刷しても現像剤担持体からの飛散トナーを効果的に回収し、飛散トナーによる画像形成装置内の汚染や、トナーコボレによる転写紙への画像汚れを防止すること。 - 特許庁

In the display during the non-reception period, this allows a change from the current received carrier frequency to other carrier frequencies to be received among a plurality of FM multiplexing broadcasting coverages.例文帳に追加

また非受信時の表示が行われたとき、複数のＦＭ多重放送のうち、現在の受信搬送周波数から、異なる他の受信搬送周波数の放送に変化することができる。 - 特許庁

To provide a radio communication equipment, a mobile terminal device, and a radio communication method which can save consumption power further when a mobile terminal device UE having an interface corresponding to multiple radio communication systems of different coverages does handover.例文帳に追加

異なるカバレッジの複数の無線通信システムに対応するインターフェースを有する移動端末装置ＵＥがハンドオーバする際に、さらなる省消費電力化を実現できる無線通信装置、移動端末装置及び無線通信方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a mask, a method of preparing the mask and a method of manufacturing a semiconductor device, capable of reducing the variation of a finish wiring dimension depending on a mask pattern by interposing a dummy pattern for equalizing a resist exposure surface area per area of one chip and improving the accuracy of the finish wiring dimension among semiconductor devices having different pattern coverages and cell occupancies.例文帳に追加

マスクパターンに依存した仕上がり配線寸法のバラツキを、１チップ面積当りのレジスト露出表面積が等しくなるようなダミーパターンを介在させることにより低減して、異なるパターン被覆率やセル占有率を有する半導体装置間の仕上がり配線寸法の精度の向上が図れるマスク、マスクの作成方法および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

An image processing apparatus defines a pattern to be synthesized with a background part among patterns, which are to be synthesized with the background part related to a ground tint image and a latent image part, as a pattern having a plurality of regions with different coverages in a main scanning direction, and executes a process of synthesizing the pattern with the background part.例文帳に追加

画像処理装置は、地紋画像にかかわる背景部および潜像部のそれぞれと合成されるパターンのうち当該背景部と合成されるパターンについては主走査方向にカバレッジの異なる複数の領域を有するパターンとし、当該パターンと当該背景部との合成処理を実行するようにした。 - 特許庁